[发明专利]一种用于高温粒子幕光谱发射率测量的加热装置

权利要求书

1.一种用于高温粒子幕光谱发射率测量的加热装置，其特征在于：

包括自上至下依次设置于机架（19）上的高温加热炉（4）、水冷观察段（11）和粒子回收仓（14），

所述高温加热炉（4）的顶部设置盖合于其顶部的炉盖（3），炉盖（3）的顶部设置有漏斗（1）和搅拌电机（2），所述漏斗（1）与高温加热炉（4）的内胆（6）相通，所述搅拌电机（2）驱动高温加热炉（4）的内胆（6）中的搅拌桨（5）；

所述高温加热炉（4）和水冷观察段（11）之间设置有第一高温阀门（8）；

所述水冷观察段（11）的上段设置有粒子幕调节片（9），位于粒子幕调节片（9）以下的水冷观察段（11）的侧壁上设置有观察窗（10），所述水冷观察段（11）为双层外壁，且双层外壁之间填充有冷却介质，所述水冷观察段（11）还设置有惰性气体吹扫进出口；

所述水冷观察段（11）与粒子回收仓（14）之间设置有第二高温阀门（13 ）；

所述机架（19）上还设置有驱动炉盖（3）和高温加热炉（4）竖直运动的滑动机构。

2.根据权利要求1所述的用于高温粒子幕光谱发射率测量的加热装置，其特征在于：

所述滑动机构包括电动推杆（16）、滑杆（17）和丝杆滑台（18），电动推杆（16）连接炉盖（3），所述高温加热炉（4）通过滑杆（17）连接于丝杆滑台（18）上，所述丝杆滑台（18）和滑杆（17）均固定在机架(19)上。

3.根据权利要求1所述的用于高温粒子幕光谱发射率测量的加热装置，其特征在于：所述高温加热炉（4）采用高温电阻丝作为加热元件，所述高温加热炉（4）连接固定于机架（19）侧面的加热炉控制器7。

4.根据权利要求1所述的用于高温粒子幕光谱发射率测量的加热装置，其特征在于：所述粒子幕调节片（9）为一个中间开设有矩形孔（92）的金属片，且位于粒子幕调节片（9）对称的两端各设置有一个定位孔（91）。

5.根据权利要求1所述的用于高温粒子幕光谱发射率测量的加热装置，其特征在于：所述观察窗（10）为四个，相邻的观察窗（10）呈90°设置。

6.根据权利要求1所述的用于高温粒子幕光谱发射率测量的加热装置，其特征在于：所述水冷观察段（11）外壁的下端设置有水冷进水口（12），所述水冷观察段（11）外壁的上段设置有水冷出水口（20）。

7.根据权利要求1所述的用于高温粒子幕光谱发射率测量的加热装置，其特征在于：所述水冷观察段（11）内、外壁的下端设置有惰性气体吹扫进口（22），所述水冷观察段（11）内、外壁的上端设置有惰性气体吹扫出口（21）。

8.根据权利要求1所述的用于高温粒子幕光谱发射率测量的加热装置，其特征在于：所述机架（19）的底部设置有四个福马轮（15）。

9.根据权利要求1所述的用于高温粒子幕光谱发射率测量的加热装置，其特征在于：所述搅拌桨（5）、内胆（6）、粒子幕调节片（9）和粒子回收仓（14）的材质均为316s不锈钢，可承受800℃以上的高温。

10.根据权利要求1所述的用于高温粒子幕光谱发射率测量的加热装置，其特征在于：所述第一高温阀门（8）和第二高温阀门（13）均为耐高温的圆形插板阀，并采用石墨垫片密封，可承受800℃以上高温。