[发明专利]一种毫米波基片集成波导天线有效

专利信息
申请号: 202110649484.2 申请日: 2021-06-10
公开(公告)号: CN113471687B 公开(公告)日: 2023-05-12
发明(设计)人: 钱正芳;熊浩;王任衡;周灿钦;梁豪;范姝婷;孙一翎 申请(专利权)人: 深圳大学
主分类号: H01Q1/38 分类号: H01Q1/38;H01Q1/50;H01Q21/00;H01Q21/06
代理公司: 深圳中一联合知识产权代理有限公司 44414 代理人: 张全文
地址: 518060 广东*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 毫米波 集成 波导 天线
【权利要求书】:

1.一种毫米波基片集成波导天线,其特征在于:

包括底层基片(100)、中间基片(200)和顶层基片(300);其中,

所述底层基片(100)设置有基片集成波导;所述基片集成波导包括基片集成波导平面魔T结构(101)和两个第一功分器(102),两个所述第一功分器(102)关于所述基片集成波导平面魔T结构(101)对称设置,所述基片集成波导平面魔T结构(101)和两个所述第一功分器(102)构成单脉冲馈电网络;所述基片集成波导平面魔T结构(101)具有第一输入馈电结构(101a)和第二输入馈电结构(101b),所述第一输入馈电结构(101a)和所述第二输入馈电结构(101b)分别用于通过所述单脉冲馈电网络产生和信号的波束与差信号的波束;所述第一功分器(102)内朝向所述中间基片(200)的一侧设置有第一层间耦合缝隙(103);其中,第一功分器(102)和第二功分器(201)均为一分二功分器,两个第一功分器(102)和两个第二功分器(201)通过第一层间耦合缝隙(103)和第二层间耦合缝隙(202)电性耦合而构成一个一分四功分器;

所述中间基片(200)设置有两个第二功分器(201),所述第二功分器(201)内设置有第二层间耦合缝隙(202);两个所述第一功分器(102)和两个所述第二功分器(201)一一正对设置,两个所述第一功分器(102)和两个所述第二功分器(201)通过所述第一层间耦合缝隙(103)和第二层间耦合缝隙(202)电性耦合;所述第二功分器(201)内朝向所述顶层基片(300)的一侧设置有第一馈电耦合缝隙(203);

所述顶层基片朝向所述中间基片(200)的一侧设置有第二馈电耦合缝隙(301),所述顶层基片背离所述中间基片(200)的一侧设置有天线辐射阵列(302);所述第一馈电耦合缝隙(203)和第二馈电耦合缝隙(301)电性耦合,所述第二馈电耦合缝隙(301)用于将电磁波馈至所述天线辐射阵列(302)以辐射出所述毫米波基片集成波导天线,其中,第一馈电耦合缝隙(203)和第二馈电耦合缝隙(301)形状相同,均呈工字型。

2.如权利要求1所述的毫米波基片集成波导天线,其特征在于:

所述基片集成波导包括两排金属化通孔,分别为内排金属化通孔(101c)和外排金属化通孔(101d),所述内排金属化通孔(101c)和所述外排金属化通孔(101d)间隔设置;所述内排金属化通孔(101c)包括依次间隔排列的多个金属化通孔,所述外排金属化通孔(101d)包括依次间隔排列的多个金属化通孔;

所述基片集成波导设置为能够允许通过调整所述内排金属化通孔(101c)与所述外排金属化通孔(101d)的间隔距离和/或所述金属化通孔的孔径以调节电磁波信号的截止频率。

3.如权利要求2所述的毫米波基片集成波导天线,其特征在于:

所述天线辐射阵列(302)包括多个天线单元,多个所述天线单元按照设定阵列排布构成所述天线辐射阵列(302),每个所述天线单元均呈工字型;所述第二馈电耦合缝隙(301)包括多个单缝隙,多个所述单缝隙按照所述设定阵列排布构成所述第二馈电耦合缝隙(301),每个所述单缝隙均呈工字型;

所述天线辐射阵列(302)的中心和所述第二馈电耦合缝隙(301)的中心重合,且所述天线单元和所述单缝隙两者相互正交。

4.如权利要求3所述的毫米波基片集成波导天线,其特征在于:

所述设定阵列为N排M列,其中,N大于M;且,

所述N排的单排排布方向为所述顶层基片(300)的宽度方向;

所述M列的单列排布方向为所述顶层基片(300)的长度方向。

5.如权利要求3或4所述的毫米波基片集成波导天线,其特征在于:

每个所述天线单元均为双元贴片天线单元。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳大学,未经深圳大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110649484.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top