[发明专利]除氧化物的旋转靶材绑定方法、计算机可读存储介质及绑定装置

说明书

本发明涉及磁控溅射靶材制备技术领域，特别涉及一种除氧化物的旋转靶材绑定方法、靶材绑定装置以及计算机可读存储介质。除氧化物的旋转靶材绑定方法将硬质波纹片伸入背管与靶管之间的间隙，提拉硬质波纹片以刮擦背管外表面和/或靶管内表面，并且从背管与最底层靶管之间的间隙底部向上地往所述间隙内注入铟液，控制所述注入铟液的速度以使间隙内铟液的最高点低于硬质波纹片的最低点。该除氧化物的旋转靶材绑定方法自下而上地注入铟液，且在注入铟液前先将硬质波纹片伸入背管与靶管之间的间隙，利用硬质波纹片的边角刮擦背管外表面和靶管内表面，除去两者上的氧化铟层或其他氧化物，提升铟与靶材/背管的贴合率。

技术领域

本发明涉及磁控溅射靶材制备技术领域，特别涉及一种除氧化物的旋转靶材绑定方法、计算机可读存储介质及应用该除氧化物方法实现绑定的绑定装置。

背景技术

近年来，采用溅射法制备的薄膜材料因其高致密度、优良附着性等优点，受到平面显示器、电子控制器、玻璃镀膜、光学薄膜等行业的青睐。随着上述领域的高速发展，溅射靶材的需求量急剧增加。根据溅射面的形状，靶材通常可分为平面靶材，旋转靶材和异型靶材。平面靶材溅射使用可达到30％～40％，而旋转靶材溅射使用率可达到80％，旋转靶材呈空心圆管状，能够围绕在固定的磁控溅射设备上旋转，可360度均匀刻蚀靶面，这样均匀的使用让靶材表面光滑，减少“结瘤”现象的产生，提升镀膜均匀性，提高靶材的利用率，从而降低镀膜成本，因此旋转靶材是未来发展的一大趋势。

在旋转靶材的制备工艺中，对于无法用喷涂浇筑方式生产的陶瓷靶材和某些金属靶材，需用绑定贴合法(绑定)将需要溅射的靶材与背管绑定。目前绑定方法大多是将直径较大的外管靶材套在直径相对较小的背管上，用金属铟或导电胶等具有良好导电导热性能的焊料填充两者的间隙，将外管靶材和背管焊接。用金属铟绑定的方法需要将铟加热并维持在熔点以上的状态时注入，金属铟容易在空气中氧化，使得铟与靶材/背管的贴合率低。

发明内容

本发明要解决的技术问题是：提供一种除氧化物的旋转靶材绑定方法，其能提升绑定环节中铟与靶材/背管的贴合率。

提供一种除氧化物的旋转靶材绑定方法，包括以下步骤：

靶材安装步骤.绑定装置的底座上设有注铟装置和背管安装位，将背管安装在所述背管安装位，将多节靶管对齐地套装在背管外周，该状态下，背管与最底层靶管之间的间隙对准注铟装置的输出口；

刮擦步骤.将硬质波纹片伸入背管与靶管之间的间隙，提拉硬质波纹片以刮擦背管外表面和/或靶管内表面；

绑定步骤.从背管与最底层靶管之间的间隙底部向上地往所述间隙内注入铟液，控制所述注入铟液的速度以使间隙内铟液的最高点低于硬质波纹片的最低点。

优选地，所述刮擦步骤中，在提拉硬质波纹片之前，将硬质波纹片伸入背管与靶管之间的间隙直到硬质波纹片的最低处抵住绑定装置的底座。

优选地，所述刮擦步骤与所述绑定步骤是同步执行的。

优选地，所述刮擦步骤中，提拉硬质波纹片具体地，在所述间隙内沿径向上下往复地提起-压低所述硬质波纹片。

优选地，所述刮擦步骤中，提拉硬质波纹片具体地，在所述间隙内沿周向移动所述硬质波纹片。

优选地，包括在所述刮擦步骤之前执行的压制步骤：对硬质金属片进行热压成型，得到与所述靶材与背管之间的间隙形状相匹配的弧形硬质波纹片。

优选地，所述绑定步骤包括脉冲式注入步骤：间隔地进行快速注入铟液。

优选地，所述绑定步骤中对靶管外壁和/或背管内壁进行加热，完成注入铟液后停止加热，还包括间隔加热步骤，执行所述停止加热后间隔一小段时间T再次加热。

还提供一种计算机可读存储介质，其存储有计算机程序，所述计算机程序被处理器执行时能够实现上述的除氧化物的旋转靶材绑定方法。