[发明专利]一种同轴共焦激光加工系统

权利要求书

1.一种同轴共焦激光加工系统，包括共用同一聚焦镜的激光模块以及成像模块；

所述激光模块还包括用于改变激光束方向的第一变光单元，所述激光束经过所述第一变光单元后射入所述聚焦镜，通过所述聚焦镜对激光束聚焦；

成像模块包括与所述聚焦镜同轴设置的成像单元以及用于调节成像焦距的调焦单元，经加工件的待加工表面反射的照明光线依次经过所述聚焦镜以及所述调焦单元后在所述成像单元中成像。

2.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述激光模块还包括：

激光器，用于发射所述激光束；

准直放大单元，用于对所述激光束进行准直放大。

3.根据权利要求1或2所述的系统，其特征在于，所述第一变光单元包括沿激光束射出方向排布的第一反射镜、偏转单元以及第一分光镜；

准直放大后的激光束以第一方向射入所述第一反射镜，经过所述第一反射镜反射后，再以第二方向射入所述偏转单元，最后以所述第一方向射入所述第一分光镜，其中，所述第一方向垂直于所述第二方向。

4.根据权利要求3所述的系统，其特征在于，所述成像单元包括第一相机，所述调焦单元包括与所述第一相机对应的第一管镜；

所述第一相机，所述第一管镜以及所述聚焦镜同轴，经过待加工表面反射的照明光线经过所述聚焦镜、所述第一管镜后射入所述第一相机中成像。

5.根据权利要求4所述的系统，其特征在于，所述成像单元还包括第二相机，所述调焦单元还包括与第二相机对应的第二管镜，所述第一管镜和所述第二管镜的倍率不同；

所述成像模块还包括用于改变照明光线入射方向的第二变光单元，经聚焦镜的照明光线，在经过所述第二变光单元后，一部分进入所述第一管镜，另一部分进入所述第二管镜。

6.根据权利要求5所述的系统，其特征在于，所述第二变光单元包括与所述第一管镜同轴的第二分光镜以及与所述第二管镜同轴的第二反射镜；

经过所述第二分光镜折射的照明光线进入所述第一管镜，经过所述第二分光镜反射的照明光线再经过所述第二反射镜反射后进入所述第二管镜。

7.根据权利要求6所述的系统，其特征在于，还包括用于对所述待加工表面照明的照明模块；

所述照明模块包括第一照明单元以及第二照明单元；

所述第一照明单元发出的照明光线经过所述聚焦镜照射在所述待加工表面，再反射进入所述聚焦镜；

所述第二照明单元发出的照明光线经过所述待加工表面反射进入所述聚焦镜。

8.根据权利要求7所述的系统，其特征在于，所述第一照明单元包括第一光源以及第三反射镜；

述第一光源发出的照明光线经过述第三反射镜反射再经过述第二分光镜改变方向射入述聚焦镜。

9.根据权利要求8所述的系统，其特征在于，述第二照明单元包括第二光源，第四反射镜以及透镜；

述第二光源发出的照明光线经过述第四反射镜反射后射入到所述透镜，再经过述透镜后照射到待加工表面。

10.根据权利要求8或9所述的系统，其特征在于，所述第一光源和所述第二光源为组合光源。