[发明专利]一种聚集诱导发光聚合物薄膜及其宏量制备方法

权利要求书

1.一种聚集诱导发光聚合物薄膜的宏量制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

(1)将单体A溶解于离子液体中，得到单体A溶液；将单体B溶解于有机溶剂中，得到单体B溶液；

所述的单体A为1,2-二苯基-1,2-二(4-氨基苯基)乙烯、四(4-氨基苯基)乙烯、1,2-二苯基-1,2-二(4-羟基苯基)乙烯、四(4-羟基苯基)乙烯、1,2-二苯基-1,2-二(4-羧基苯基)乙烯和四(4-羧基苯基)乙烯中的至少一种；

所述的单体B为多酰氯和/或多异氰酸酯；

(2)将单体溶液A涂覆至基材上，形成厚度均匀的液膜；

(3)将步骤(2)制得的涂覆有均匀液膜的基材置于单体溶液B中，进行界面聚合反应，在基材表面生成聚集诱导发光聚合物薄膜；

(4)界面聚合反应后将基材取出，浸入洗涤剂中，生成的聚集诱导发光聚合物薄膜自动从基材上脱落；之后将聚集诱导发光聚合物薄膜进行干燥，收卷。

2.根据权利要求1所述的聚集诱导发光聚合物薄膜的宏量制备方法，其特征在于，所述的离子液体为1-乙基-3-甲基咪唑四氟硼酸盐、1-丙基-3-甲基咪唑四氟硼酸盐、1-丁基-3-甲基咪唑四氟硼酸盐、1-己基-3-甲基咪唑四氟硼酸盐、1-辛基-3-甲基咪唑四氟硼酸盐、1-乙基-3-甲基咪唑双三氟甲磺酰亚胺盐、1-丁基-3-甲基咪唑双三氟甲磺酰亚胺盐和双三氟甲基磺酰亚胺季铵盐中的至少一种。

3.根据权利要求1所述的聚集诱导发光聚合物薄膜的宏量制备方法，其特征在于，所述的单体B为均苯三甲酰氯、丁二酰氯、己二酰氯、辛二酰氯、甲苯二异氰酸酯、二苯甲烷二异氰酸酯、六亚甲基二异氰酸酯和萘二异氰酸酯中的至少一种。

4.根据权利要求1所述的聚集诱导发光聚合物薄膜的宏量制备方法，其特征在于，所述的有机溶剂为正己烷、正辛烷、正十二烷、异构烷烃、甲苯、二氯乙烷、三氯乙烷和氯仿中的至少一种。

5.根据权利要求1所述的聚集诱导发光聚合物薄膜的宏量制备方法，其特征在于，所述的单体A溶液中，单体A的浓度为20～200mmol/L；所述的单体B溶液中，单体B的浓度为0.1～100mmol/L。

6.根据权利要求1所述的聚集诱导发光聚合物薄膜的宏量制备方法，其特征在于，步骤(2)中，所述的液膜的厚度为50μm～2mm。

7.根据权利要求1所述的聚集诱导发光聚合物薄膜的宏量制备方法，其特征在于，步骤(3)中，界面聚合反应的时间为1s～12h；界面聚合反应的温度为0～120℃。

8.根据权利要求1所述的聚集诱导发光聚合物薄膜的宏量制备方法，其特征在于，步骤(4)中，所述的洗涤剂为水、乙醇和N-甲基吡咯烷酮中的至少一种；温度为5～95℃。

9.一种聚集诱导发光聚合物薄膜，其特征在于，采用权利要求1-8任一项所述的宏量制备方法制备得到。