[发明专利]一种CHO细胞培养方法有效
| 申请号： | 202110589738.6 | 申请日： | 2021-05-28 |
| 公开（公告）号： | CN115404222B | 公开（公告）日： | 2023-10-24 |
| 发明（设计）人： | 朱亚楠;姜晓玲;陈俊;丁亮亮 | 申请（专利权）人： | 盛禾（中国）生物制药有限公司 |
| 主分类号： | C12N5/10 | 分类号： | C12N5/10;C12P21/08;C07K16/32 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 210000 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 cho 细胞培养 方法 | ||
1.一种CHO细胞培养方法，其特征在于，所述方法包括：
(a)将CHO细胞在基础培养基中放大培养；
(b)进行高密度培养，从细胞处于对数生长期时开始每天流加补料培养基，所述补料培养基的流加量为初始培养物体积的1～3％。
2.根据权利要求1所述的CHO细胞培养方法，其特征在于，所述补料培养基流加量为初始培养物体积的2％。
3.根据权利要求1或2所述的CHO细胞培养方法，其特征在于，所述基础培养基选自CHO细胞无血清培养基。
4.根据权利要求1或2所述的CHO细胞培养方法，其特征在于，所述对数生长期是指细胞密度达到0.8～1×106cells/mL时即为对数生长期。
5.根据权利要求1或2所述的CHO细胞培养方法，其特征在于，所述流加补料培养过程中，温度为32～37℃，搅拌转速为120～220rpm，溶氧含量为40～60％。
6.根据权利要求5所述的CHO细胞培养方法，其特征在于，所述流加补料培养过程中，温度为37℃，搅拌转速为150rpm，溶氧含量为50％。
7.根据权利要求1或2所述的CHO细胞培养方法，其特征在于，所述流加补料培养过程中，当细胞密度达到6～8×106cells/mL时，调整培养温度为34±2℃，pH为6.90±0.2。
8.根据权利要求7所述的CHO细胞培养方法，其特征在于，所述流加补料培养过程中，当细胞密度达到6～8×106cells/mL时，调整培养温度为34±1℃，pH为6.90±0.05。
9.根据权利要求1-8任一项权利要求所述的CHO细胞培养方法，其特征在于，该方法用于生产单克隆抗体。
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