[发明专利]一种带有自清理机构的等厚精面平磨装置有效
申请号: | 202110586059.3 | 申请日: | 2021-05-27 |
公开(公告)号: | CN113500514B | 公开(公告)日: | 2022-06-14 |
发明(设计)人: | 杨章生 | 申请(专利权)人: | 南京如意刀模有限公司 |
主分类号: | B24B37/04 | 分类号: | B24B37/04;B24B37/12;B24B37/27;B24B37/34;B24B55/06;B24B55/12;B24B57/02 |
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地址: | 211222 江苏省南*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 带有 清理 机构 厚精面平磨 装置 | ||
本发明涉及平磨装置技术领域,具体为一种带有自清理机构的等厚精面平磨装置,所述平磨设备包括工作台支撑底座,所述工作台支撑底座的一侧连接有电控箱,所述电控箱的顶端连接有支撑架,所述支撑架的顶端连接有嵌入式控制面板,所述工作台支撑底座的正面连接有调节旋钮,在进行加工期间,需要通过打磨片对代加工的工件进行打磨处理,本发明在打磨期间通过设置的自清洁大盘能对打磨片上端残留的打磨液进行清洁,能将多余的研磨液进行及时的回收处理,通过清洁能避免研磨液的飞溅,保证了施工环境的卫生,在进行平磨处理能节省更多的时间,进而加快了工作效率,保证了施工场所整洁还节约了资源成本。
技术领域
本发明涉及平磨装置技术领域,具体为一种带有自清理机构的等厚精面平磨装置。
背景技术
研磨机是用涂上或嵌入磨料的研具对工件表面进行研磨的磨床。主要用于研磨工件中的高精度平面、内外圆柱面、圆锥面、球面、螺纹面和其他型面。用于材料的单面研磨、抛光,平面研磨机为精密研磨抛光设备,被磨、抛材料放于平整的研磨盘上,研磨盘逆时钟转动,修正轮带动工件自转,重力加压或其它方式对工件施压,工件与研磨盘作相对运转磨擦,来达到研磨抛光目的。产生磨削作用的磨料颗粒有两种来源,一种来自于不断外加;另一种方法是将磨料颗粒固定在研磨盘中。
在现有技术中,平磨机在进行加工期间,实现高效高精度的加工,在进行高精度加工期间,通过添加不同成分的研磨液进行辅助研磨,通过研磨液提升了研磨的精度,以及待加工件的平整度,在此期间,一部分的研磨液在离心力的作用下飞溅开来,这样会导致加工场场所的不整洁,造成施工场地的污染,其中飞溅的研磨液会造成浪费,无法进行回收处理再次利用,最终造成经济成本的损失,因此亟需设计一种带有自清理机构的等厚精面平磨装置来解决上述问题。
发明内容
本发明的目的在于提供一种带有自清理机构的等厚精面平磨装置,以解决上述背景技术中提出的平磨装置加工期间研磨液会飞溅的问题。
为实现上述目的,本发明提供如下技术方案:一种带有自清理机构的等厚精面平磨装置,包括平磨设备,所述平磨设备包括工作台支撑底座,所述工作台支撑底座的一侧连接有电控箱,所述电控箱的顶端连接有支撑架,所述支撑架的顶端连接有嵌入式控制面板,所述工作台支撑底座的正面连接有调节旋钮,所述工作台支撑底座的顶端连接有操作平台,所述工作台支撑底座的一侧连接有支撑大臂,所述支撑大臂的上端设置有打磨片,所述支撑大臂的内部嵌入连接有金属高度调节块,所述支撑大臂的侧面嵌入连接有驱动传动结构,所述驱动传动结构包括调节凹槽,所述支撑大臂的侧面嵌入连接有调节凹槽,所述金属高度调节块的一侧连接有电机,所述支撑大臂的嵌入连接有卡合齿片,所述金属高度调节块的前端连接有防护罩,所述防护罩的一侧连接有自清洁结构,所述自清洁结构包括自清洁大盘,所述防护罩的一侧连接有自清洁大盘,所述支撑大臂的一侧连接有挡板,所述自清洁大盘的内壁嵌入连接有连接防滑环,所述自清洁大盘的内部插设有支撑连接杆,所述自清洁大盘的内壁连接有清洁支杆,所述清洁支杆的一侧连接有清洁刮刷头,所述挡板的上端开设有引导凹槽,所述引导凹槽的内部开设有滴漏孔洞。
优选的,所述金属高度调节块的底端连接有卡合齿片,所述金属高度调节块的顶端连接有打磨片和的防护罩,所述金属高度调节块和防护罩滑动连接。
优选的,所述电机的输出端连接有打磨片,所述防护罩包裹在防护罩的内部。
优选的,所述挡板倾斜设置在自清洁大盘的下方,所述挡板的前端高度低于打磨片的最底端的高度。
优选的,所述自清洁大盘远离打磨片的一侧连接有清洁转移组件,所述清洁转移组件包括收集仓体,所述打磨片的远离打磨片的一侧连接有收集仓体,所述收集仓体内部中空,所述收集仓体的纵切面为U字型。
优选的,所述收集仓体的内部开设有滑槽,所述收集仓体的内部嵌入连接有支撑弹簧,所述支撑弹簧嵌入在滑槽的内部,且滑槽的内部嵌入连接有滑动支杆,所述滑动支杆的顶端连接有转动盘,所述转动盘的上端连接有吸收块。
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