[发明专利]光照射方法、光吸收材料附着装置及其相关方法和装置在审
申请号: | 202110577204.1 | 申请日: | 2021-05-26 |
公开(公告)号: | CN113733547A | 公开(公告)日: | 2021-12-03 |
发明(设计)人: | 须原浩之;青户淳 | 申请(专利权)人: | 株式会社理光 |
主分类号: | B29C64/112 | 分类号: | B29C64/112;B29C64/268;B29C64/264;B33Y10/00;B33Y30/00 |
代理公司: | 北京纪凯知识产权代理有限公司 11245 | 代理人: | 张全信 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 照射 方法 光吸收 材料 附着 装置 及其 相关 | ||
1.利用具有可被光吸收材料吸收的波长的光束照射用于吸收光的所述光吸收材料的光照射方法,所述光照射方法包括:
通过汽化区域中的高于或等于外部压力的压力向所述光吸收材料施加能够使所述光吸收材料飞行的能量,其中所述汽化区域以所述汽化区域围绕光轴的方式存在于透明体和所述光吸收材料之间的界面处。
2.根据权利要求1所述的光照射方法,进一步包括:
通过向所述光吸收材料添加表面调节剂使所述光吸收材料的液滴量变小,以降低所述光吸收材料的表面张力并使所述光吸收材料以适合量的液滴形式飞行并降落在附着目标上。
3.根据权利要求1或2所述的光照射方法,进一步包括:
利用小于引起所述光吸收材料汽化的能量密度的能量照射所述光轴上的所述光吸收材料,
其中在所述光轴上不存在汽化区域。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的光照射方法,
其中围绕所述光束的光轴的光束轮廓的内直径为20微米或更大但90微米或更小。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的光照射方法,进一步包括:
使用所述光吸收材料以引起朝向所述光轴的汽化压力,所述光吸收材料的粘度通过光照射降低。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的光照射方法,进一步包括:
用使所述光吸收材料的与光照射的面相对的背面处的能量密度低于引起所述光吸收材料汽化的能量密度的能量照射所述光吸收材料。
7.光吸收材料附着装置,其包括
配置为利用具有可被所述光吸收材料吸收的波长的光束照射用于吸收光的所述光吸收材料的单元;和
配置为转换所述光束的入射激光束波前的相位分布的单元,以转换至期望的光束轮廓,
其中压力高于或等于外部压力的汽化区域以所述汽化区域围绕光轴的方式存在于透明体和所述光吸收材料之间的界面处,和
其中所述光吸收材料附着装置通过所述汽化区域的压力将能够使所述光吸收材料飞行的能量施加至所述光吸收材料,以使所述光吸收材料降落在间隔至少0.5mm或更大的附着目标上。
8.根据权利要求7所述的光吸收材料附着装置,进一步包括:
膜厚度控制单元,其配置为控制分辨率,
其中所述膜厚度控制单元用作配置为进料所述光吸收材料的单元。
9.根据权利要求7或8所述的光吸收材料附着装置,进一步包括:
配置为在所述光束的波前上叠加锥形波前以改变具有围绕所述光轴的环形状的所述光束的内径的单元。
10.飞行体产生方法,其包括:
用激光束照射基体材料的与之上设置有光吸收材料的表面相对的表面,以使所述光吸收材料在所述激光束的发射方向上飞行,
其中在所述基体材料与所述光吸收材料之间的界面处沿所述激光束照射的区域的外周产生压力高于或等于外部压力的汽化区域。
11.飞行体产生装置,其包括:
光吸收材料飞行单元,其配置为用激光束照射与之上设置有光吸收材料的表面相对的基体材料的表面,以使所述光吸收材料在所述激光束的发射方向上飞行,
其中在所述基体材料与所述光吸收材料之间的界面处沿所述激光束照射的区域的外周产生压力高于或等于外部压力的汽化区域。
12.成像方法,其包括:
用激光束照射基体材料的与之上设置有光吸收材料的表面相对的表面以使所述光吸收材料在所述激光束的发射方向上飞行;和
将飞行的所述光吸收材料转印至转印介质,
其中在所述基体材料与所述光吸收材料之间的界面处沿所述激光束照射的区域的外周产生压力高于或等于外部压力的汽化区域。
13.三维物体生产方法,其包括:
用激光束照射基体材料的与之上设置有光吸收材料的表面相对的表面以使所述光吸收材料在所述激光束的发射方向上飞行;
将飞行的所述光吸收材料转印至转印介质;和
固化转印的所述光吸收材料,
其中所述三维物体生产方法重复将所述光吸收材料转印到固化的所述光吸收材料上,并固化所述光吸收材料,和
其中在所述基体材料与所述光吸收材料之间的界面处沿所述激光束照射的区域的外周产生压力高于或等于外部压力的汽化区域。
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