[发明专利]一种磁光克尔转角在显微成像系统中的测量方法及其设备在审
申请号: | 202110558133.0 | 申请日: | 2021-05-21 |
公开(公告)号: | CN115372268A | 公开(公告)日: | 2022-11-22 |
发明(设计)人: | 杨黄林;吴阳 | 申请(专利权)人: | 赫智科技(苏州)有限公司 |
主分类号: | G01N21/21 | 分类号: | G01N21/21;G01N21/01;G02B21/06;G02B21/08;G02B21/02;G02B21/36 |
代理公司: | 北京同辉知识产权代理事务所(普通合伙) 11357 | 代理人: | 廖娜 |
地址: | 215000 江苏省苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 克尔 转角 显微 成像 系统 中的 测量方法 及其 设备 | ||
1.一种磁光克尔转角在显微成像系统中的测量方法,其特征在于,包括以下步骤:
步骤1:照明光通过准直镜组和匀光镜组准直进行照明光的处理;
步骤2:通过步骤1处理后的照明光再次通过第一光阑和第二光阑进行光强和光斑的调制;
步骤3:经过步骤2后的照明光射入起偏器后得到偏振光;
步骤4:偏振光通过分光镜将一部分光反射并通过物镜到待测样品表面;
步骤5:首先将样品磁畴正向磁场饱和偏置,反射回来的偏振光带有样品状态为“0”表面的信息,并通过反射光透过分光镜进入全偏振相机模组,经孔径分光镜组对四个区域进行不同的偏振调制,成像在相机探测器的四个区域,得到样品“0”态下反射光偏振信息;
步骤6:将样品磁畴反向磁场饱和偏置,反射回来的偏振光带有样品状态为“1”的表面信息;并通过反射光透过分光镜进入全偏振相机模组,经孔径分光镜组对四个区域进行不同的偏振调制,成像在相机探测器的四个区域,得到样品“1”态下反射光偏振信息;
步骤7:样品“0”和“1”两种状态下反射回来的光的偏振方向存在θK的夹角,即磁光克尔转角,最后通过全偏振相机模组实现高精度探测磁光克尔转角。
2.根据权利要求1所述的一种磁光克尔转角在显微成像系统中的测量方法,其特征在于:所述全偏振相机模组可以对样品不同方向的磁畴状态实现实时成像观测。
3.根据权利要求1所述的一种磁光克尔转角在显微成像系统中的测量方法,其特征在于:所述孔径分光镜组对不同的分光区域实现0度,45度,90度,135度四种不同偏振方向的调制。
4.根据权利要求1所述的一种磁光克尔转角在显微成像系统中的测量方法,其特征在于:所述相机探测器的四个区域与孔径分光镜组对应的分光区域相对应设置。
5.一种适用于磁光克尔转角在显微成像系统的设备,其特征在于:包括准直透镜组(1)、匀光镜组(2)、第一光阑(3)、第二光阑(4)、起偏器(5)、分光镜(6)、全偏振相机模组(9)、物镜(10)及样品(11),所述准直透镜组(1)的前方依次设置有匀光镜组(2)、第一光阑(3)、第二光阑(4)、起偏器(5)和分光镜(6),所述分光镜(6)的一路朝向物镜(10),所述物镜(10)的下方设置有样品,所述分光镜(6)的另一路朝向全偏振相机模组(9)。
6.根据权利要求5所述的一种适用于磁光克尔转角在显微成像系统的设备,其特征在于:所述物镜(10)为显微物镜。
7.根据权利要求5所述的一种适用于磁光克尔转角在显微成像系统的设备,其特征在于:所述全偏振相机模组(9)内设置有检偏器(7)、孔径分光镜组(8)及相机,所述相机的下方依次设置有径分光镜组(8)和检偏器(7)。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于赫智科技(苏州)有限公司,未经赫智科技(苏州)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110558133.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种隔离型防冻抑尘剂
- 下一篇:一种机器人以及机器人的行驶控制方法