[发明专利]缓解臭氧催化氧化装置下游设备及管线腐蚀的方法及装置

权利要求书

1.一种缓解臭氧催化氧化装置下游设备及管线腐蚀的方法，其特征在于，其包括：将臭氧和废水混合进行催化氧化反应之后，在紫外照射的条件下继续反应。

2.根据权利要求1所述的缓解臭氧催化氧化装置下游设备及管线腐蚀的方法，其特征在于，所述催化氧化反应的过程中所采用的催化剂包括活性组分，所述活性组分选自Fe、Mn、Ni、Co、Cd、Cu、Zn、Cr和Ag中的至少一种。

3.根据权利要求2所述的缓解臭氧催化氧化装置下游设备及管线腐蚀的方法，其特征在于，所述催化剂还包括载体，所述载体选自γ-氧化铝、活性炭和多孔陶瓷中的至少一种。

4.根据权利要求1-3中任一项所述的缓解臭氧催化氧化装置下游设备及管线腐蚀的方法，其特征在于，控制催化氧化反应的反应时间为10～20min，紫外照射的条件下反应时间为18～30min；

优选地，臭氧和废水持续通入进行反应，通过臭氧发生器制得的臭氧混合气中臭氧浓度为120-150mg/L。

5.一种用于实施例权利要求1-4中任一项所述缓解臭氧催化氧化装置下游设备及管线腐蚀的方法的臭氧催化氧化装置，其特征在于，包括臭氧催化氧化单元和与所述臭氧催化氧化单元连通的紫外照射处理单元，所述臭氧催化氧化单元内设置有催化剂床层，所述紫外照射处理单元内设置有紫外灯源。

6.根据权利要求5所述的装置，其特征在于，所述臭氧催化氧化单元与所述紫外照射处理单元相邻设置，且所述臭氧催化氧化单元通过位于顶部的溢流管与所述紫外照射处理单元连通。

7.根据权利要求6所述的装置，其特征在于，所述臭氧催化氧化单元包括进料室、位于所述进料室上方的出料室和用于连通所述进料室和所述出料室的过渡室，所述催化剂床层为中空柱形结构，所述进料室和所述出料室位于所述催化剂床层内，所述过渡室围绕所述催化剂床层设置，所述溢流管的一端与所述出料室连通，所述溢流管的另一端与所述紫外照射处理单元连通；

优选地，所述催化剂床层为长方体状，长为1.5～7m，宽为0.3～0.5m，高度为3～5m。

8.根据权利要求7所述的装置，其特征在于，所述进料室内靠近底部进料口处设置有气体分布器。

9.根据权利要求6所述的装置，其特征在于，所述紫外照射处理单元的腔体内设置有多个间隔设置的紫外灯源套板，所述紫外灯源安装于所述紫外灯源套板内；紫外灯功率30～200W；

相邻的两个所述紫外灯源套板中，一个所述紫外灯源套板与所述腔体的顶壁相连，且与所述腔体的底壁间隔设置；另一个所述紫外灯源套板与所述腔体的底壁相连，且与所述腔体的顶壁间隔设置；

优选地，所述紫外灯源套板的数量为3-5个，每个所述紫外灯源套板内设置有3-7个紫外灯源；

优选地，所述紫外灯源套板的材质为聚碳酸酯。

10.根据权利要求9所述的装置，其特征在于，所述紫外照射处理单元的腔体高度为2.5～4.5m，相邻的两个所述紫外灯源套板的间距为0.5～1.5m。