[发明专利]一种荧光有机-无机氧化硅液晶材料及其制备方法

权利要求书

1.一种荧光有机-无机氧化硅液晶材料的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：将液晶分子与荧光分子、手性掺杂剂溶解混合，交联反应得到所述荧光有机-无机氧化硅液晶材料，所述液晶分子为末端带有三烷氧基硅基的向列相液晶分子，所述荧光分子为具有AIE效应的四苯基乙烯衍生物；

所述液晶分子的通式为：

，

其中，n为2-12中的任一整数，A为如下任一基团：

；

所述荧光分子的通式如下：

，

其中，B1、B2、B3独立选自氢、甲基、乙基、丙基、丁基、戊基、己基、甲氧基和芳基；

所述手性掺杂剂为

、或

。

2.如权利要求1所述的荧光有机-无机氧化硅液晶材料的制备方法，其特征在于，所述液晶分子的制备方法如下：在惰性气体保护下，将化合物A、化合物B、脱水剂和催化剂I在溶剂I中反应，得到中间产物；将中间产物与三甲氧基硅烷、催化剂II在溶剂II中反应得到所述液晶分子；所述化合物A为2-氯对苯二酚、2-甲基对苯二酚、4, 4'-二羟基联苯、2, 3-二甲基氢醌、2, 6-二甲基氢醌或对苯二酚，所述化合物B的通式如下：

，其中，n为0-10中的任一整数。

3.如权利要求2所述的荧光有机-无机氧化硅液晶材料的制备方法，其特征在于，所述惰性气体为氮气、氦气、氖气或氩气，脱水剂为二环己基碳二亚胺，所述催化剂I为二甲氨基吡啶，所述溶剂I为四氢呋喃或二氯甲烷，所述催化剂II为Karstedt催化剂，所述溶剂II为甲苯。

4.如权利要求2所述的荧光有机-无机氧化硅液晶材料的制备方法，其特征在于，所述化合物A、化合物B、脱水剂和催化剂I的摩尔比为20~30：44~66：60~90：3.2~4.8。

5.如权利要求1所述的荧光有机-无机氧化硅液晶材料的制备方法，其特征在于，液晶分子与荧光分子、手性掺杂剂溶解混合的溶剂为四氢呋喃或丙酮，所述交联反应为酸雾条件下缩聚反应。

6.如权利要求1-5任一所述制备方法制得的荧光有机-无机氧化硅液晶材料。

7.如权利要求6所述的荧光有机-无机氧化硅液晶材料在制备液晶器件中的应用。