[发明专利]一种生产新材料用基片预处理设备

说明书

本发明公开了新材料生产领域的一种生产新材料用基片预处理设备，其主要包括内置超声波发射器的清洗盒，清洗盒的上端滑动安装有清理机构，所述清理机构用于清理清洗盒内清洗液液面悬浮的污物，沿着清理机构的滑动方向，在清理盒的一端还设置有污物收集桶和清洗液补充桶。本发明能够对悬浮在超声波清洗液液面上的污物进行自动清理，使其离开超声波清理盒中并自动向超声波清理盒中补液，保证超声波清理盒中的清理液充足且干净，避免污染基片，影响新材料的生产效率。

技术领域

本发明为新材料生产领域，具体涉及到的是一种生产新材料用基片预处理设备。

背景技术

CVD是Chemical Vapor Deposition的简称，是指高温下的气相反应，例如，金属卤化物、有机金属、碳氢化合物的热分解，氢还原或使它的混合气体在高温下发生化学反应以析出金属、氧化物、碳化物等无机材料的方法，随着科学技术的发展，CVD法已应用于高纯度金属的精制、粉末合成、半导体薄膜等，是一种颇具特征的新材料生产设备方法。

CVD法在制备新材料时，需要与基片为底，通入反应气体在基片上进行反应，使新材料粉末附着在基片的表面，但是由于基片上通常有油污、灰尘等其他杂质，影响了新材料在基片表面的附着，现有的清洁装置在对基片进行清洗时，通常利用超声波进行空化作用，使气泡带走气泡表面的污物上浮到清洗液的液面上，这样做虽然暂时实现了对基片的清洁，但是，当人们将基片从清洗液中取出时，基片离开液面，此时，液面上的部分杂质仍会附在基片的表面，导致后序的CVD生产工序中，新材料难以附着在被杂质遮挡的基片上，进而降低了新材料的生产效率。如果对其在用清水冲洗不仅浪费水资源，而且也无法准确地判断基片是否冲洗干净，可能会影响后续生产，降低了新材料的生产效率。

所以目前有必要提供一种生产新材料用基片预处理设备，能够对悬浮在超声波清洗液液面上的污物进行自动清理，使其离开超声波清理盒中并自动向超声波清理盒中补液，保证超声波清理盒中的清理液充足且干净，避免污染基片，影响新材料的生产效率。

发明内容

本发明的目的在于提供一种生产新材料用基片预处理设备，以解决上述背景技术中提出了现有技术缺点的问题。

为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：一种生产新材料用基片预处理设备，包括内置超声波发射器的清洗盒，清洗盒的上端滑动安装有清理机构，所述清理机构用于清理清洗盒内清洗液液面悬浮的污物，沿着清理机构的滑动方向，在清理盒的一端还设置有污物收集桶和清洗液补充桶。

作为本发明的进一步方案，所述清理机构包括转动安装在清理盒盒体上的两相互平行的螺杆，螺杆外接驱动电源，所述螺杆上滑动安装有过滤筛板；所述清理盒在靠近污物收集桶的一端设置有用于连通清理盒与污物收集桶的流出口，在清洗液补充桶上设置有用于连通清理盒与清洗液补充桶的流入口，所述流出口上设置有开关单元。

作为本发明的进一步方案，所述开关单元包括滑动安装在流入口上方的开关板，所述开关板的滑动方向与过滤筛板的滑动方向一致，沿着开关板的滑动方向，开关板与清理盒盒体之间设置有第一压缩弹簧。