[发明专利]一种大焦深消色差微透镜的设计与制备方法有效

专利信息
申请号: 202110541365.5 申请日: 2021-05-18
公开(公告)号: CN113325569B 公开(公告)日: 2022-05-24
发明(设计)人: 白洋;王学倩;刘传宝 申请(专利权)人: 北京科技大学
主分类号: G02B27/00 分类号: G02B27/00;G02B3/00
代理公司: 北京市广友专利事务所有限责任公司 11237 代理人: 张仲波;邓琳
地址: 100083*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 焦深 色差 透镜 设计 制备 方法
【说明书】:

发明公开了一种大焦深消色差微透镜的设计与制备方法,所述微透镜设置在透明基底上,所述方法包括:确定所述微透镜的焦距及工作波段;确定所述透明基底选用的材料,使所述透明基底的色散低于预设值;设置所述微透镜表面面型轮廓的几何参数,所述微透镜表面面型轮廓包括中心部分的球面和外侧部分的切面,所述球面与所述切面构成平滑表面;根据所述几何参数,在所述透明基底表面上制作形成所述微透镜。本发明通过采用球面透镜和轴棱镜相结合的方式,克服了传统透镜和超构透镜的弊端,能够在可见光波段实现高效率、大焦深、消色差聚焦等功能,且具有设计原理简单、无需大量计算、加工成本低廉、制备效率高、周期短等显著优势。

技术领域

本发明涉及光学透镜技术领域,特别涉及一种大焦深消色差微透镜的设计与制备方法。

背景技术

光学透镜在现代人类生活中应用十分广泛,可用于手机、相机、显微镜、光刻机等。然而,传统光学球面透镜面临着球差、慧差、像散、色差等一系列问题。尤其,色差的存在会严重降低成像质量。为实现消色差聚焦,传统消色差透镜往往只针对几种固定波长,采用多片透镜方式来构建透镜组,不仅体积大、重量重、应用场景受限,且无法做到真正意义上地连续消色差。

近年来,消色差超构透镜的出现为实现宽频、消色差聚焦提供了一种有效途径。基于亚波长纳米结构单元的谐振效应,超构透镜可实现对不同波长入射光的消色差聚焦,具有体积小、质量轻、易集成等的优点;然而在设计过程中,需要对纳米结构阵列进行大量的构型和仿真模拟,设计复杂、计算量大、且制作效率低。另一方面,由于超构透镜采用等效连续原理,因此不可避免地存在散射效应,降低消色差聚焦效率;此外,大部分超构透镜都采用各项异性结构单元,对入射光的偏振敏感,进一步降低了其应用范围。不仅如此,在加工制备方面,消色差超构透镜的亚波长精细结构(大深宽比)需要采用电子束曝光、原子层沉积等高精度微纳制备工艺,加工周期长、工艺复杂、价格昂贵,无法大尺寸制备,截止目前无法适用于大规模生产。

发明内容

针对当前传统透镜和超构透镜存在的缺陷,本发明的目的在于提供一种大焦深消色差微透镜的设计与制备方法,通过采用低色散透明光学材料,并基于球面透镜与轴棱镜相结合的方法,实现高透射、大焦深、宽频带、消色差聚焦功能;与现有技术相比,本发明设计原理简单、加工制备便捷、性能稳定、成本低廉;此外,可以通过简单的改变球面与切面的结构参数来实现焦距、焦深的变化。

为解决上述技术问题,本发明的实施例提供如下方案:

一种大焦深消色差微透镜的设计与制备方法,所述微透镜设置在透明基底上,所述方法包括以下步骤:

S1、确定所述微透镜的焦距及工作波段;

S2、确定所述透明基底选用的材料,使所述透明基底的色散低于预设值;

S3、设置所述微透镜表面面型轮廓的几何参数,所述微透镜表面面型轮廓包括中心部分的球面和外侧部分的切面,所述球面与所述切面构成平滑表面;

S4、根据所述几何参数,在所述透明基底表面上制作形成所述微透镜。

优选地,所述透明基底选用在可见光波段的低色散透明材料,折射率大于1.4,折射率虚部0.01,在工作波段内色散0.1,所述透明基底选用的材料包括二氧化硅、氟化钙、BK7玻璃。

优选地,所述微透镜的表面面型轮廓直接在所述透明基底上切割而成。

优选地,所述中心部分的球面面型由下述公式描述:

R0=f(n-1)

其中,R0为球面曲率半径,f为透镜焦距,n为透明基底材料在工作波段中心波长的折射率实部。

优选地,所述微透镜底面直径与中心厚度的关系由下述公式描述:

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