[发明专利]一种用于硅酸甲酯直接法合成的反应器有效

专利信息
申请号: 202110521514.1 申请日: 2021-05-13
公开(公告)号: CN113262724B 公开(公告)日: 2022-08-26
发明(设计)人: 沈俊;朱新华;赵燕;杨志国;康程;庹保华;张瑞喆;陈维平;宋建春 申请(专利权)人: 宁夏胜蓝化工环保科技有限公司;华陆工程科技有限责任公司;中化学华陆新材料有限公司
主分类号: B01J8/00 分类号: B01J8/00;C07F7/04
代理公司: 北京中和立达知识产权代理有限公司 11756 代理人: 杨磊
地址: 753202 宁夏回族自治区石嘴山*** 国省代码: 宁夏;64
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摘要:
搜索关键词: 一种 用于 硅酸 直接 合成 反应器
【权利要求书】:

1.一种用于硅酸甲酯直接法合成的反应器,其包括:入料口、混料腔、下滑通道、预处理腔、反应腔;其特征在于:

经过混料腔内部的混料能够实现Cu催化物质的添加并实现硅粉和Cu催化剂的充分混合;

混料腔设置有混料模块,混料模块包括内研磨部和外研磨部;

外研磨部包括组合后形成一个整体筒状结构的第一外研磨部和第二外研磨部;第一外研磨部和第二外研磨部各自具有半圆筒状的外壳部分,和从外壳部分内壁向圆心方向延伸的多个半圆环形板材的研磨片;研磨片的外表面为具有凹凸的结构;

内研磨部具有中心杆和多个沿着中心杆轴向分布的与中心杆同心的圆盘状的研磨碟片,多个研磨碟片按照预设距离固定在中心杆上,形成串型结构;

内研磨部和外研磨部均由纯铜制成;

研磨碟片具有圆盘状的形状,并且在其表面上设置图案化形状,图案化形状包括凹凸图案和位于凹凸图案之上的粗糙图案;粗糙化图案的平均粗糙度设置为0.5-3mm;

通过研磨片的凹凸结构和研磨碟片的图案化形状的凹凸图案之间进行的研磨,在研磨过程中,凹凸图案表面的粗糙图案的尖端凸起由于摩擦受到应力,由纯铜形成的粗糙图案的尖端凸起从研磨碟片脱落并形成颗粒,与硅粉进行后续的研磨和混合,形成了充分混合的催化剂Cu颗粒和硅粉混合物。

2.根据权利要求1中所述的反应器,其特征在于:经由混料腔反应物料经由下滑通道,进入预处理腔进行预处理,随后进入反应腔进行直接法反应制备硅酸甲酯,其中反应物甲醇气体通过反应器进气管进入反应腔内部参与反应;反应后的硅酸甲酯经由产物排出管进行后续的冷凝和收集。

3.根据权利要求1中所述的反应器,其特征在于:入料口安装于混料腔的上方,并具有朝向混料腔方向逐渐缩小的直径。

4.根据权利要求3中所述的反应器,其特征在于:混料模块通过外研磨部的外边缘或者底部,直接和/或间接的与混料腔的内壁机械的固定连接。

5.一种如权利要求1-4任意一项所述的用于硅酸甲酯直接法合成的反应器的控制方法,其通过应变片检测混料腔内部受力,并加以调整。

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