[发明专利]一种新型的垂直升降快速冷却的石墨烯生长装置在审

专利信息
申请号: 202110494315.6 申请日: 2021-05-07
公开(公告)号: CN113321209A 公开(公告)日: 2021-08-31
发明(设计)人: 钱正芳;梁豪;周灿钦 申请(专利权)人: 深圳华梦通讯技术有限公司
主分类号: C01B32/186 分类号: C01B32/186
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 518038 广东省深圳市福田区华富街道莲*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 新型 垂直 升降 快速 冷却 石墨 生长 装置
【权利要求书】:

1.一种新型的垂直升降快速冷却的石墨烯生长装置,其特征在于,包括一个用于石墨烯CVD生长的(2)8英寸石英管、一个控制石墨烯CVD生长温度的(7)真空管式电炉,(1)垂直导轨,(3)两端支架,(4)水平台,(6)垂直支架,(8)水平导轨以及其它支撑结构。

2.如权利要求1所述的一种新型的垂直升降快速冷却的石墨烯生长装置,其特征在于所述升降架搭载了真空管式电炉,不限制构成形式,提供了真空管式电炉前后移动的自由度,可用于控制真空管式炉的开合和高自由度的移动,方便反应完成后进行冷却。

3.如权利要求1所述的一种新型的垂直升降快速冷却的石墨烯生长装置,其特征在于搭载在升降架的真空管式电炉为分裂式,通过安装导轨和升降架的方式使得反应后可将电炉放置在上部,方便反应完成后进行冷却。

4.如权利要求1所述的一种新型的垂直升降快速冷却的石墨烯生长装置,其特征在于用于石墨烯CVD生长的8英寸石英管长度略大于真空管式电炉的长度,相比水平移动式的CVD装置所需长度大大缩短,减小了设备的占地面积,更有利于保持管内气流的稳定和温度的稳定。

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