[发明专利]一种涂敷方锥型微波辐射计定标源单元结构

权利要求书

1.一种涂敷方锥型微波辐射计定标源单元结构，包括定标源座和设置于所述定标源座上的方锥单元，其特征在于：所述方锥单元包括若干曲面四方锥(1)；所述曲面四方锥(1)外侧面涂覆有吸波涂层(2)；所述吸波涂层(2)为正四棱方锥结构，所述曲面四方锥(1)和所述吸波涂层(2)的轴线重合；任意两个相邻所述曲面四方锥(1)底部固定连接。

2.根据权利要求1所述的一种涂敷方锥型微波辐射计定标源单元结构，其特征在于：所述曲面四方锥(1)主视投影轮廓分为三部分，分别为两根腰线(11)和底线(12)；两根所述腰线(11)关于所述曲面四方锥(1)轴线对称设置；两根所述腰线(11)一端点相连接；两根所述腰线(11)另一端点分别与所述底线(12)两端点相连接。

3.根据权利要求2所述的一种涂敷方锥型微波辐射计定标源单元结构，其特征在于：所述吸波涂层(2)的主视投影的轮廓为两关于所述吸波涂层(2)的轴线对称的直腰线(21)；两所述直腰线(21)一端点相连接；两所述直腰线(21)的夹角为β，所述曲面四方锥(1)的顶点与所述吸波涂层(2)顶点的直线距离L＝t/sin(β*0.5)；其中t为现有设计的涂层厚度。

4.根据权利要求3所述的一种涂敷方锥型微波辐射计定标源单元结构，其特征在于：所述腰线(11)分为抛物线A段(111)和抛物线B段(112)；所述抛物线A段(111)中点相对于所述抛物线A段(111)两端点的连线上的点远离所述曲面四方锥(1)的轴线；所述抛物线B段(112)中点相对于所述抛物线B段(112)两端点的连线上的点靠近所述曲面四方锥(1)的轴线。

5.根据权利要求4所述的一种涂敷方锥型微波辐射计定标源单元结构，其特征在于：所述抛物线A段(111)的计算公式为

其中，p为所述曲面四方锥(1)的底面边长，其余a，a₁，b，b₁，c₁为中间变量，可由下面各式计算得到：

tt＝1/tan(0.5β)，tt₁＝0.125·tt，w₂＝p-2t

hn＝0.5p/tan(0.5β)+0.5t/sin(0.5β)

其中，t为等效涂敷厚度，hn即所述底线(12)中点与所述吸波涂层(2)顶点的连线长度。

6.根据权利要求5所述的一种涂敷方锥型微波辐射计定标源单元结构，其特征在于：所述抛物线B段(112)的计算公式为其中各参数p，a，b，z与权利要求5定义相同。

7.根据权利要求3所述的一种涂敷方锥型微波辐射计定标源单元结构，其特征在于：所述涂层厚度t为当所述腰线(11)为直线时，预先设计的所述吸波涂层(2)的厚度。