[发明专利]一种海胆状有序微纳阵列结构的制备方法

权利要求书

1.一种海胆状有序微纳阵列结构的制备方法，其特征在于，制备方法包括以下步骤：

S1: 在干净的玻璃衬底表面自组装上单层密排的PS微球模板得到PS/Glass基底；

S2:利用真空蒸镀设备在PS/Glass基底上蒸镀Ag纳米级薄膜得到Ag/PS/Glass银球帽阵列基底；

S3:将超薄氧化铝模板(UTAM)转移到步骤S2得到的基底上得到UTAM/Ag/PS/Glass基底；

S4:利用真空蒸镀设备在UTAM/Ag/PS/Glass基底上蒸镀Ag薄膜；

S5:利用胶带去除超薄氧化铝模板，制得海胆状有序微纳阵列结构。

2.根据权利要求1所述的一种海胆状有序微纳阵列结构的制备方法，其特征在于，步骤S1在干净的玻璃衬底表面自组装上单层密排的PS微球模板，包括如下分步骤：

S1-1: 将玻璃衬底进行清洗和亲水处理；

S1-2: 配置PS微球溶液；

S1-3: 配置十二烷基硫酸钠(SDS)水溶液；

S1-4: 将所述玻璃衬底置于盛有去离子水的玻璃容器底部；

S1-5: 用微量移液器取适量PS球溶液在去离子水表面自组装单层非密排PS球薄膜；

S1-6: 用微量移液器取 适量SDS溶液注入离子水表面制备大面积单层密排的PS球薄膜；

S1-7: 缓慢地移出玻璃容器中的去离子水，单层密排的PS球薄膜将整体转移至容器底部的玻璃衬底上；

S1-8: 盛有单层密排的PS球薄膜的玻璃衬底自然晾干后置电加热平台上加热PS球粘附在玻璃基底上制备出PS/Glass基底。

3.根据权利要求2所述的一种海胆状有序微纳阵列结构的制备方法，其特征在于，步骤S1-7中移出玻璃容器中的去离子水的速率为-1-3mL /min。

4.根据权利要求2所述的一种海胆状有序微纳阵列结构的制备方法，其特征在于，步骤S1-8中电加热平台的温度为105~110 ℃ ，加热时间为5~10分钟。

5.根据权利要求1所述的一种海胆状有序微纳阵列结构的制备方法，其特征在于，步骤S3将超薄氧化铝模板(UTAM)转移到步骤S2得到的基底上得到UTAM/Ag/PS/Glass基底，包括如下分步骤：

S3-1: 利用二次阳极氧化方法制备出以PMMA膜为支撑层的超薄氧化铝薄膜；

S3-2: 将氧化铝薄膜置于丙酮溶液中，去除PMMA支撑层；

S3-3: 用清洗干净的玻璃片捞起丙酮溶液中的超薄氧化铝薄膜；

S3-4: 将步骤S3-3得到的基底缓慢地斜插入去离子水中将超薄氧化铝薄膜完整地转移到水表面；

S3-5: 将步骤S2得到的Ag/PS/Glass基底插入水中缓慢地捞起悬浮与水表面的超薄氧化铝薄膜，自然晾干后得到UTAM/Ag/PS/Glass基底。

6.根据权利要求5所述的一种海胆状有序微纳阵列结构的制备方法，其特征在于，步骤S3-1超薄氧化铝厚度与孔径比3~6。

7.根据权利要求5所述的一种海胆状有序微纳阵列结构的制备方法，其特征在于，步骤S3-2氧化铝薄膜浸泡在丙酮溶液15~30min。

8. 根据权利要求1所述的一种海胆状有序微纳阵列结构的制备方法，其特征在于，步骤S4蒸镀银膜的厚度为50~250 nm。