[发明专利]一种使双倒角遮光圈断面不发亮不发光的模具在审

专利信息
申请号: 202110462559.6 申请日: 2021-04-27
公开(公告)号: CN113147077A 公开(公告)日: 2021-07-23
发明(设计)人: 黄友利 申请(专利权)人: 惠州市庆科利精密技术有限公司
主分类号: B30B15/02 分类号: B30B15/02
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 516000 广东省惠州市仲恺高新区*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 倒角 遮光 断面 发亮 发光 模具
【说明书】:

发明公开了一种使双倒角遮光圈断面不发亮不发光的模具,属于模具领域,一种使双倒角遮光圈断面不发亮不发光的模具,包括模柄、上模座、下模座和下垫板,所述上模座安装在模柄的底部,所述下垫板固定安装在下模座的顶部,所述上模座与下模座对应且上模座位于下模座的上方,所述上模座的顶部固定连接有上垫板。通过本方案的模具设计加工后,将基槽加工成双倒角结构,将入射线与入射点所在的孔壁斜面形成反射线大大降低进入镜头内,从而提高了摄像效果,虽然现有技术无法完全有效的消除杂光,但能大大减眩光和鬼影;双面倒角其中正面与反面倒角深度均为50%更易将基材包裹住,使基材不反光,且加工操作简单,值得推广。

技术领域

本发明涉及模具领域,更具体地说,涉及一种使双倒角遮光圈断面不发亮不发光的模具。

背景技术

众所周知,遮光圈是起到遮光作用,比如说手机镜头遮光圈,摄像头镜头遮光圈;它是用SOMA或KIMOTO等遮光材料冲压成型,镶嵌在镜头里的一块麦拉片;因为起了遮光作用,所以大家叫它为遮光圈、遮光垫片;近年来,随着电子产品发展迅速,手机、平板、车载等对拍摄像素要求越来越高。随着科技的发展,使用者对电子产品的品质同时要求也越来越高,因此拍摄设备除了品质不断提升外。现有拍摄镜头中使用的遮光圈技术也要求越来越高。在遮光圈内孔与光轴平行并且具有一定厚度的平行切面上,通过光源照射到此切面后,经切面反射到成像面容易形成眩光和鬼影,从而影响拍摄镜头成像品质。在传统的拍摄镜头中的遮光圈形成的眩光和鬼影严重,导致拍摄品质无法提高,使用可靠性较低,故提出一种使双倒角遮光圈断面不发亮不发光的模具,来解决上述问题。

发明内容

1.要解决的技术问题

本发明的目的是为了解决现有技术中存在的缺点,而提出的一种使双倒角遮光圈断面不发亮不发光的模具。

2.技术方案

为解决上述问题,本发明采用如下的技术方案。

一种使双倒角遮光圈断面不发亮不发光的模具,包括模柄、上模座、下模座和下垫板,所述上模座安装在模柄的底部,所述下垫板固定安装在下模座的顶部,所述上模座与下模座对应且上模座位于下模座的上方,所述上模座的顶部固定连接有上垫板,所述上垫板的底部设置有上夹板,所述上夹板的顶部开设有安装槽,所述安装槽内设置有内压板,所述内压板的顶部穿插设置有外冲头,所述外冲头的顶端延伸至上垫板的内部,所述外冲头的底部贯穿并延伸至上夹板的底部,所述外冲头底部的内部穿插设置有与其适配的内冲头,所述外冲头的外侧套设有与其适配的外退料套,所述外退料套的正切面为T形,所述外退料套安装在安装槽的内底壁上且外退料套的底部贯穿并延伸至上夹板的下方,所述外冲头、内冲头和外退料套的底部均设有加工倒角。

作为本发明进一步的方案:

所述上垫板内部的左右两侧均穿插设置有内导柱,两个所述内导柱的顶端分别与上模座的底部固定连接,两个所述内导柱的底端分别贯穿上夹板。

作为本发明进一步的方案:

所述安装槽内且位于内压板的顶部设置有弹簧。

作为本发明进一步的方案:

所述内冲头加工倒角底部的尖角处为圆弧球面状。

作为本发明进一步的方案:

所述加工倒角的环壁宽度为0.005毫米至0.012毫米之间。

3.有益效果

相比于现有技术,本发明的优点在于:

通过本方案的模具设计加工后,将基槽加工成双倒角结构,将入射线与入射点所在的孔壁斜面形成反射线大大降低进入镜头内,从而提高了摄像效果,虽然现有技术无法完全有效的消除杂光,但能大大减眩光和鬼影;双面倒角其中正面与反面倒角深度均为50%更易将基材包裹住,使基材不反光,且加工操作简单,值得推广。

附图说明

图1为本发明的结构示意图;

图2为本发明图1中上垫板的放大图;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于惠州市庆科利精密技术有限公司,未经惠州市庆科利精密技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110462559.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top