[发明专利]一种热辅助磁记录用存储介质及其制备方法

说明书

本发明的化学镀镍合金溶液采用了三种不同的有机羧酸进行组合，对化学镀镍合金镀层的结晶性能进行改善，使化学镀镍合金镀层具备了优良的顺磁热稳定性。获得的镍合金镀层中钴、铜元素的含量可达2‑3wt%，磷元素含量达12‑15wt%，具有优异的耐高温性能，可在高达450℃的高温条件下热处理1小时以上时间仍保持稳定的顺磁性能及较低的磁饱和性能，特别适用于制作热辅助磁记录的存储介质。

技术领域

本发明涉及镍合金用于制备电子产品的电子工业领域，具体涉及一种化学镀镍合金溶液及镍合金在热辅助磁记录用存储介质制备过程中的应用。

背景技术

在数据存储领域中，如何提高单位存储介质的存储容量仍是亟待解决的课题。从纵向磁记录技术到垂直磁记录过程中将磁部分垂直放置到层深度中，从而获得了更高的存储密度。数据密度的进一步提高只能通过减小位尺寸来获得。不考虑存储单元的物理尺寸大小，存储单元所定义的是由定义数量的可磁化晶粒组成，可用于稳定地存储数据。如果能够进一步减小晶粒直径，则可以在同一存储区域上设置更多的存储单元，意味着增加了单位区域的存储密度和容量。但是，这些强铁磁晶粒小型化的过程中会受到超顺磁效应的限制，将引起磁化强度的自发损失，从而导致存储信息的自发损失。因此，需要提高存储介质的矫顽力。由于磁各向异性的硬限制因素，传统的垂直磁记录技术无法解决这一技术难题。对此，新型的热辅助磁记录技术可以提供利用居里温度的原理克服晶粒的高各向异性势垒的可能性。居里温度是取决于材料的关键温度和铁磁材料的特性，当到达居里温度时，铁磁材料将失去其磁性。而利用激光能量，可以将磁性部分的温度升高至居里温度。由于需要将铁磁存储层加热到一定的温度，因此还必须考虑向下传热到背衬顺磁性镍合金层的耐热性能。镍合金层作为随后溅射的沉积层的载体层是必不可少的部分，具有出色的耐腐蚀性和优异的抛光性能。但是在暴露于临界温度一段时间的情况下，非晶态镍合金层会受到相变的影响，非晶态结构逐渐转变了结晶态，并且将失去其重要的顺磁性质，导致在磁头的写入和读取操作过程中引起干扰和数据丢失。因此，希望镍合金层在加热到高温时不丧失顺磁性能。

目前，公开的专利文献中公开了一种Ni-P-Cu、Ni-P-Co化学镀溶液，其包含4-8g/L的水溶性镍，0.01-1g/L的水溶性铜盐、钴盐和还原剂次磷酸或其盐，两种不同类型的二羧酸或含氧二羧酸和二羧酸用作稳定剂。获得的化学镀镍合金镀层，当温度超过400℃时，镍合金镀层会迅速失去其磁性，使得该化学镀镍合金溶液不适合于热辅助磁记录用存储介质的制作。

发明内容

本发明的目的是提供一种化学镀镍合金溶液，可形成镍合金镀层，该镀层在高温条件下不会失去其顺磁性能，尤其是在长时间处于高温条件下。另外，本发明的化学镀镍合金溶液具有良好的稳定性，不会出现析出物，化学镀镍合金溶液的沉积速率较高，获得的镀层具有良好的结合强度。

本发明的目的是提供一种化学镀镍合金溶液，获得的镍合金镀层可用于热辅助磁记录技术的存储介质的制备，可用作存储介质的载体层。

根据本发明的化学镀镍合金溶液，其包含以下组分：镍离子；选自铜离子、钴离子或其混合物的可还原性金属离子；至少一种还原剂；至少三种不同的分别至少含有两个羧酸基团的有机酸的组合。

其中，本发明的化学镀镍合金溶液中镍离子可以由任何水溶性盐或任何水溶性镍络合物提供。优选地，镍离子选自硫酸镍、氯化镍、乙酸镍、甲基磺酸镍、氨基磺酸镍及其混合物。化学镍合金溶液中镍离子的浓度可以在10g/L至30g/L的范围内。

化学镀镍合金溶液中其它合金离子的来源包括，铜离子可以选自硫酸铜、氯化铜、硝酸铜、乙酸铜、焦磷酸铜或其混合物；钴离子选自硫酸钴、氯化钴、硝酸钴、乙酸钴或其混合物。

化学镍合金溶液中其他可还原金属离子的总浓度可以变化，优选为0.1g/L至2g/L。如果化学镀镍合金镀浴中包含一种以上的其他可还原金属离子，则所使用的所有其他可还原金属离子的总浓度优选在上述范围内。当应用上述浓度范围时，以获得最佳的顺磁性能所需范围为宜。