[发明专利]成型体、磁芯和电子部件有效
| 申请号： | 202110451926.2 | 申请日： | 2021-04-26 |
| 公开（公告）号： | CN113571285B | 公开（公告）日： | 2023-06-16 |
| 发明（设计）人： | 山下保英;寺尾耕太郎;桥本晋亮 | 申请（专利权）人： | TDK株式会社 |
| 主分类号： | H01F3/08 | 分类号： | H01F3/08;H01F3/10;H01F27/255 |
| 代理公司： | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人： | 杨琦;邸万杰 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 成型 电子 部件 | ||
1.一种成型体，其特征在于：在成型体的截面上，在能够观察到10个以上且40个以下的具有磁性的大颗粒的规定范围的视野内，具有1处以上的间隔体区域，该间隔体区域中，平均粒径比所述大颗粒小的1个以上的小颗粒作为间隔体存在于所述大颗粒彼此之间，
在所述规定范围的视野内，具有位于绕所述大颗粒周围存在的小颗粒之间的所述大颗粒的表面至少被相互缓冲膜覆盖的部位，
在将所述小颗粒的平均粒径设为r、将所述相互缓冲膜的平均厚度设为t时，(t/r)大于0且0.7以下。
2.根据权利要求1所述的成型体，其特征在于：
在所述规定范围的视野内，具有3处以上的所述间隔体区域。
3.根据权利要求1所述的成型体，其特征在于：
所述小颗粒具有非磁性和绝缘性。
4.根据权利要求1所述的成型体，其特征在于：
所述小颗粒包含选自氧化钛、氧化铝、氧化镁、氧化锌、氧化铋、氧化钇、氧化钙、氧化硅和铁氧体中的至少一种。
5.根据权利要求1所述的成型体，其特征在于：
所述小颗粒为SiO2颗粒。
6.根据权利要求1所述的成型体，其特征在于：
所述相互缓冲膜具有非磁性和绝缘性。
7.根据权利要求1所述的成型体，其特征在于：
所述相互缓冲膜通过组合了金属醇盐的前体和非金属醇盐的任一方或双方的溶胶凝胶反应而得到。
8.根据权利要求1所述的成型体，其特征在于：
所述相互缓冲膜为四乙氧基硅烷。
9.根据权利要求1所述的成型体，其特征在于：
所述相互缓冲膜为四乙氧基硅烷。
10.一种磁芯，其具有权利要求1～9中任一项所述的成型体。
11.一种电子部件，其具有权利要求10所述的磁芯。
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