[发明专利]三维大规模集成电路电磁响应的二维快速迭代方法及装置有效
申请号: | 202110424311.0 | 申请日: | 2021-04-20 |
公开(公告)号: | CN112836466B | 公开(公告)日: | 2021-07-20 |
发明(设计)人: | 唐章宏;邹军;王芬;黄承清;汲亚飞 | 申请(专利权)人: | 北京智芯仿真科技有限公司 |
主分类号: | G06F30/398 | 分类号: | G06F30/398;G06T17/20 |
代理公司: | 北京星通盈泰知识产权代理有限公司 11952 | 代理人: | 李筱 |
地址: | 100085 北京市海淀区信*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 三维 大规模集成电路 电磁 响应 二维 快速 方法 装置 | ||
1.三维大规模集成电路电磁响应的二维快速迭代方法,其特征在于,包括以下步骤:
步骤1,将各层复杂形状的集成电路版图分割成简单形状的多边形;
步骤2,将其他层的影响作为附加的源,通过二维有限元法计算出所述集成电路版图各层的非均匀分布的电磁场和面电流分布;
步骤3,基于点电流源对场点影响的并矢格林函数,通过二维高斯积分计算简单形状多边形上非均匀分布的面电流对场点的影响,进一步基于场的线性叠加原理计算由简单形状的多边形填充而成的复杂形状的集成电路版图上非均匀分布的面电流对所有其他层的电磁场分布的影响;
步骤4,判断所有层的由于其他层上分布的所述非均匀分布的面电流的改变引起的步骤2计算的电磁场分布的改变量是否小于预先设定的误差阈值,若是,则结束;若否,则转入所述步骤2;
其中,在步骤2中,在第一次迭代设置所述其他层的影响为0;第一次迭代后每层都通过步骤2获得了分布电流,利用该分布电流通过步骤3获得所述其他层的影响;
在步骤4中,判断步骤2的选定层i的当前迭代的电场强度与所述选定层i的上次迭代的电场强度的相对误差是否小于预先设定的误差阈值,若选定层
2.根据权利要求1所述的迭代方法,其特征在于,所述步骤1包括以下步骤:
步骤1.1:采用Delaunay网格剖分方法,将所述复杂形状的集成电路版图剖分成Delaunay三角形网格;
步骤1.2:将所有剖分的所述三角形网格按面积排序,从面积最小的所述三角形网格出发,找该三角形网格的邻居三角形网格,该三角形网格与所有邻居三角形网格合并为一个四边形,找到所有合并的四边形的最大内角最小的四边形对应的邻居三角形网格,如果这个四边形的最大内角小于180°,该三角形网格即与所述最大内角最小的四边形对应的邻居三角形网格合并,并将这两个合并的三角形网格从Delaunay三角形网格中删除;否则转到下一个未被合并的所述三角形网格,转入步骤1.3;
步骤1.3:返回所述步骤1.2,直到所有三角形网格都处理完毕。
3.根据权利要求1所述的迭代方法,其特征在于,所述步骤3包括以下步骤:
步骤3.1,基于所述并矢格林函数表达的所述点电流源在任意位置产生的场,得到所述点电流源在场点产生的电场表达式;
步骤3.2,将所述点电流源在场点产生的电场表达式作为所述二维高斯积分的被积函数,基于场的线性叠加原理计算所述简单形状的多边形上非均匀分布的面电流源在相同位置产生的场;
步骤3.3,根据所述复杂形状的集成电路版图分割的所述简单形状的多边形,计算每个所述简单形状的多边形上非均匀分布的面电流源在相同位置产生的场,基于所述场的线性叠加原理计算所述复杂形状的集成电路版图上的电流在相同位置产生的场。
4.根据权利要求3所述的迭代方法,其特征在于,在所述步骤3.1中,所述点电流源在场点产生的电场表达式为根据集成电路分层的特殊结构形成的利用所述并矢格林函数给出的特殊的解析表达式。
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