[发明专利]聚酰亚胺基膜及包括该聚酰亚胺基膜的窗覆盖膜在审
| 申请号： | 202110402746.5 | 申请日： | 2021-04-14 |
| 公开（公告）号： | CN113527880A | 公开（公告）日： | 2021-10-22 |
| 发明（设计）人： | 安钟南;金惠真 | 申请（专利权）人： | SK新技术株式会社;爱思开高新信息电子材料株式会社 |
| 主分类号： | C08L79/08 | 分类号： | C08L79/08;C08J5/18;C08J7/04;C08J7/044;C08J7/046 |
| 代理公司： | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人： | 刘成春;崔龙铉 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 聚酰亚胺 包括 覆盖 | ||
1.一种聚酰亚胺基膜，所述聚酰亚胺基膜的根据ASTM D1004的撕裂强度为300N/mm以上，根据ASTM E313的黄色指数为3以下。
2.根据权利要求1所述的聚酰亚胺基膜，其中，所述撕裂强度为300-700N/mm。
3.根据权利要求1所述的聚酰亚胺基膜，其中，所述聚酰亚胺基膜的机械方向的撕裂强度TMD和宽度方向的撕裂强度TTD满足以下式1，
[式1]
0.95≤TMD/TTD≤1.05。
4.根据权利要求1所述的聚酰亚胺基膜，其中，所述黄色指数为2-3。
5.根据权利要求1所述的聚酰亚胺基膜，其中，所述聚酰亚胺基膜的根据ASTM D1746在388nm下测量的透光率为5％以上且在400-700nm下测量的全光线透光率为87％以上，雾度为2.0％以下。
6.根据权利要求5所述的聚酰亚胺基膜，其中，所述聚酰亚胺基膜的根据ASTM D1746在388nm下测量的透光率为8％以上且在400-700nm下测量的全光线透光率为89％以上，雾度为1.0％以下。
7.根据权利要求1所述的聚酰亚胺基膜，其中，所述聚酰亚胺基膜的根据ASTM D882的模量为3GPa以上，断裂伸长率为8％以上。
8.根据权利要求1所述的聚酰亚胺基膜，其中，利用Axometrics公司的Axoscan在550nm下测量的所述聚酰亚胺基膜的面内相位差为400nm以下。
9.根据权利要求1所述的聚酰亚胺基膜，其中，所述聚酰亚胺基膜包含聚酰胺酰亚胺结构。
10.根据权利要求9所述的聚酰亚胺基膜，其中，所述聚酰亚胺基膜包含衍生自芳香族二胺的单元、衍生自芳香族二酐的单元、衍生自脂环族二酐的单元和衍生自芳香族二酰氯的单元，
在所述衍生自芳香族二酐的单元、衍生自脂环族二酐的单元和衍生自芳香族二酰氯的单元的总摩尔中包含60摩尔％以上的所述衍生自芳香族二酰氯的单元。
11.根据权利要求10所述的聚酰亚胺基膜，其中，所述衍生自芳香族二酰氯的单元的含量为70-90摩尔％。
12.根据权利要求1所述的聚酰亚胺基膜，其中，所述聚酰亚胺基膜的厚度为10-500μm。
13.一种窗覆盖膜，其包括：
权利要求1至12中任一项所述的聚酰亚胺基膜；和
形成在所述聚酰亚胺基膜的至少一面上的涂层。
14.根据权利要求13所述的窗覆盖膜，其中，所述涂层是选自防静电层、防指纹层、防污层、防刮擦层、低折射层、防反射层和冲击吸收层中的任一种以上。
15.一种柔性显示面板，其包括权利要求1至12中任一项所述的聚酰亚胺基膜。
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