[发明专利]用于在X射线设备中进行剂量测量的方法和设备

说明书

本发明涉及一种用于剂量测量的设备，所述设备设计用于在X射线设备(1)中使用，所述设备包括：镜元件(2)，所述镜元件设计用于将光场(L)耦合输入到穿过镜元件的X射线(R)中；测量单元(3)，所述测量单元用于测量在载体材料(T)处的射线感生的变化，其中载体材料(T)是镜元件(2)的一部分和/或是设备的在X射线设备(1)中常规使用时处于X射线设备(1)的辐射场中的其他部件的一部分。本发明还涉及一种用于剂量测量的对应的方法以及一种X射线设备。

技术领域

本发明涉及用于剂量测量的方法和设备，所述方法和设备设计用于在X射线设备中使用，尤其涉及一种具有集成的剂量测量系统的X射线准直器。

背景技术

在X射线诊断和干预中必要的是，监控施加给患者的辐射剂量。为此，必须确定患者所经受的剂量，这例如通过如下方式实现：即测量或计算在患者前方的区域中的剂量率或剂量面积乘积。例如，这对于间接X射线照相是规范规定的。

当前，所述问题通过如下方式解决：直接在X射线准直器之后使用电离室，所述电离室测量关于面积的积分剂量(剂量面积乘积DFP或Dose AreaProduct DAP)。替选地，也可以从发生器参数，例如管电压、管电流和辐射持续时间中计算DFP(例如参见US 6,330,299)。

然而，这两种方法具有缺点。剂量的直接测量是成本密集的，并且需要不可忽略的附加的空间。因为必须使用脉冲形状的部分简化的假设，所以计算易受错误计算影响。此外，计算不能是实时的，因此不能在所涉及的时刻确定当前的剂量率或DFP率。

发明内容

本发明的目的是，提供一种用于剂量测量的替选的、更舒适的方法和一种对应的设备，借助所述方法和所述设备，避免上述缺点，并且尤其地，简单的、成本适宜的和时间准确的剂量测量是可行的。

所述目的通过一种用于剂量测量的设备、一种用于X射线设备的剂量测量的方法，以及通过一种X射线设备来实现。

根据本发明的设备用于剂量测量，并且设计用于在X射线设备中使用，例如在X射线照相设备或荧光透视设备或X射线准直器中使用。有利的应用是在如下X射线设备中，所述X射线设备配设有用于将光场耦合输入到发射的X射线中的镜，或者所述X射线设备配设有辐射限界的构件(例如准直器)和用于视觉标记X射线区域的光学装置。

在许多准直器中使用借助于灯或LED产生的光场。通常将光场经由对于X射线辐射透明的镜结合到X射线中。

设备至少包括以下部件：

-镜元件，所述镜元件设计用于将光场耦合输入到穿过镜元件的X射线中。这种镜元件是已知的，通常包括镜反射的玻璃、例如Borofloat玻璃，其借助铝蒸镀，并且通常具有氧化硅保护层，并且所述镜元件例如在X射线准直器中用于光学示出测量区域。发明人认识到，可以将镜元件用于确定剂量，因为所述镜元件由X射线辐射完全穿过。发明人对于光路中的其他材料、例如准直器认识到相同内容。

-测量单元，所述测量单元设计用于测量在载体材料处的射线感生的变化。在此，载体材料是镜元件的一部分，和/或是设备的在X射线设备中常规使用时处于X射线设备的辐射场中的其他部件的一部分。例如，准直器是这种其他部件。因此，例如测量在镜元件或准直器板(准直限界的薄板)内通过加热或电离引起的变化。

在此应注意，即使镜元件必须是设备的一部分，以便实现光场的偏转用于光学控制，用于剂量的测量也不始终必须强制性地在所述镜元件处执行，而是例如也可以在准直器板处执行。

因为X射线辐射起电离作用，所以例如可以测量在镜元件或准直器板内通过电离引起的变化。在此，可以根据电离来确定电特性，如电导率或电容(尤其当电容层处于镜元件或准直器板上时)。