[发明专利]一种基于柱透镜阵列的光柱镭射印刷检测装置及方法在审

专利信息
申请号: 202110379065.1 申请日: 2021-04-08
公开(公告)号: CN113030122A 公开(公告)日: 2021-06-25
发明(设计)人: 席蒙;邹美芳;杨皓琨;包振健;赵严;姚毅;杨艺 申请(专利权)人: 凌云光技术股份有限公司
主分类号: G01N21/956 分类号: G01N21/956
代理公司: 北京弘权知识产权代理有限公司 11363 代理人: 逯长明;许伟群
地址: 100094 北京市海淀*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 基于 透镜 阵列 光柱 镭射 印刷 检测 装置 方法
【权利要求书】:

1.一种基于柱透镜阵列的光柱镭射印刷检测装置,其特征在于,包括柱透镜阵列(2)、线形光源(3)、相机(4);

所述柱透镜阵列(2)平行放置在光柱镭射印刷产品的检测面(1)正上方,所述柱透镜阵列(2)为透明基材并且距离所述检测面(1)的高度为2-10mm,用于对不同方向的衍射光线进行整形;

所述线形光源(3)放置在所述柱透镜阵列(2)的正上方,所述线形光源(3)照明时出光角度与所述检测面(1)法向量的夹角为0°-50°,用于作为正面光为光柱镭射印刷产品检测提供照明光线;

所述相机(4)布置在所述线形光源(3)上方,所述相机(4)CCD方向与所述柱透镜阵列(2)长柱方向平行,用于根据接收到的来自所述柱透镜阵列(2)的实时反射整形光线生成待检测图像,并将所述待检测图像发送给图像处理系统(5)。

2.根据权利要求1所述的一种基于柱透镜阵列的光柱镭射印刷检测装置,其特征在于,所述柱透镜阵列(2)包含2个及以上平行等间距分布的柱透镜,所述柱透镜直径为100-700um。

3.根据权利要求2所述的一种基于柱透镜阵列的光柱镭射印刷检测装置,其特征在于,所述柱透镜横向截面形状包括半圆型或正弦余弦型。

4.根据权利要求2所述的一种基于柱透镜阵列的光柱镭射印刷检测装置,其特征在于,所述柱透镜阵列(2)的整体宽度不小于5mm,整体厚度2-10mm。

5.根据权利要求1所述的一种基于柱透镜阵列的光柱镭射印刷检测装置,其特征在于,所述线形光源(3)为LED光源或荧光管及其组合光源。

6.根据权利要求1所述的一种基于柱透镜阵列的光柱镭射印刷检测装置,其特征在于,所述相机(4)为线阵相机,所述线阵相机与所述检测面(1)法向量之间的夹角为5°-50°。

7.根据权利要求1所述的一种基于柱透镜阵列的光柱镭射印刷检测装置,其特征在于,还包括图像处理系统(5);

所述图像处理系统(5)包括图像传输模块、图像存储模块和图像检测模块;

所述图像传输模块用于接收所述相机(4)所生成的所述待检测图像;

所述图像存储模块用于存储所述待检测图像;

所述图像检测模块用于根据所述待检测图像判定最终正废品结果。

8.一种基于柱透镜阵列的光柱镭射印刷检测方法,其特征在于,应用于权利要求1-6任意一项所述的一种基于柱透镜阵列的光柱镭射印刷检测装置,所述方法包括以下步骤:

接收所述相机(4)所生成的所述待检测图像;

存储所述待检测图像;

根据所述待检测图像判定最终正废品结果。

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