[发明专利]一种用于比对光谱的方法和装置

说明书

本申请实施例的目的是提供一种用于比对光谱的方法和装置。所述方法包括：对于需要进行比对的多个光谱对象，获取所述光谱对象对应的趋势相关信息，其中，所述趋势相关信息用于指示光谱对象的光谱值随波长变化的趋势，所述多个光谱对象为具有相同波长点集合的光谱；根据所述趋势相关信息，对所述光谱对象的光谱匹配度进行评定。本申请实施例具有以下优点：通过在评定光谱匹配度时将光谱值随波长变化的趋势作为参考值，提升了评定光谱匹配的准确性；根据本申请实施例，基于趋势光谱和现有技术的比对参考值，综合评定光谱匹配度，进一步提升了评定光谱匹配的准确性。

技术领域

本发明涉及计算机技术领域，尤其涉及一种用于比对光谱的方法和装置。

背景技术

现有技术中，半导体器件的膜厚和关键尺寸测量均需比对光谱，即将从样品采集到的光谱与理论计算的光谱比对，然后通过分析获取被测样品的参数信息。例如，设测量的光谱为S₁(λ_i,i＝1,2,3,…n)，理论光谱为S₂(λ_i,i＝1,2,3,…n)，现有技术通常直接计算光谱S₁与S₂的均方根误差(Root Mean Square Error，RMSE)或拟合度(Goodness of Fit，GOF)，作为光谱比对的评定标准。其中，光谱S₁与S₂的RMSE的计算公式如下：

当作为光谱比对的评定标准时，RMSE越小，比对的两条光谱S₁(λ_i)和S₂(λ_i)越接近或相似。

然而，该方法存在不足。例如比较一条光谱S与另外若干条光谱的匹配度时，可能会出现光谱间的RMSE或GOF相同，但实际上匹配度存在优劣的情况。这种时候，仅靠原光谱间的RMSE或GOF无法评定光谱S与哪一条光谱更接近或相似，需要借助更多的手段来解决该问题。

发明内容

本申请实施例的目的是提供一种用于比对光谱的方法和装置。

本申请实施例提供了一种用于比对光谱的方法，其中，所述方法包括：

对于需要进行比对的多个光谱对象，获取所述光谱对象对应的趋势相关信息，其中，所述趋势相关信息用于指示光谱对象的光谱值随波长变化的趋势，所述多个光谱对象为具有相同波长点集合的光谱；

根据所述趋势相关信息，对所述光谱对象的光谱匹配度进行评定。其中，所述光谱匹配度用于表征两条光谱接近或相似的程度。

本申请实施例提供了一种用于比对光谱的装置，其中，所述装置包括：

用于对于需要进行比对的多个光谱对象，获取所述光谱对象对应的趋势相关信息的装置，其中，所述趋势相关信息用于指示光谱值随波长变化的趋势，所述光谱对象为具有相同波长点集合的光谱；

用于根据所述趋势相关信息，对所述光谱对象的光谱匹配度进行评定的装置。

本申请实施例提供了一种计算机设备，包括存储器、处理器及存储在存储器上并可在处理器上运行的计算机程序，其特征在于，所述处理器执行所述程序时实现如本申请实施例所述的方法。

本申请实施例提供了一种计算机可读的存储介质，其上存储有计算机程序，其特征在于，该程序被处理器执行时实现如本申请实施例所述的方法。

与现有技术相比，本发明具有以下优点：通过在评定光谱匹配度时将光谱值随波长变化的趋势作为参考值，提升了评定光谱匹配的准确性；根据本申请实施例，基于趋势光谱和现有技术的比对参考值，综合评定光谱匹配度，进一步提升了评定光谱匹配的准确性。

附图说明