[发明专利]用于待监测的环境中的存在检测的系统和方法在审

专利信息
申请号: 202110358139.3 申请日: 2021-04-01
公开(公告)号: CN113495298A 公开(公告)日: 2021-10-12
发明(设计)人: F·帕萨尼蒂;E·R·阿莱西 申请(专利权)人: 意法半导体股份有限公司
主分类号: G01V3/00 分类号: G01V3/00
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 董莘
地址: 意大利阿格*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 用于 监测 环境 中的 存在 检测 系统 方法
【权利要求书】:

1.一种用于在待监测的环境中进行存在检测的系统,包括:

处理单元;以及

静电电荷传感器,耦合至所述处理单元,被配置为检测所述环境中的静电电荷,并且生成静电电荷信号,

其中在待监测的所述环境中的存在不存在的起始条件下,所述处理单元被配置为:

获取第一静电电荷信号;

对所述第一静电电荷信号进行采样,并且生成由多个第一样本形成的第一采样信号;

对于每个第一样本,计算相对于时间的导数,并且生成由相应的多个第二样本形成的第一导数信号,每个第一样本和相应的第二样本是双轴参考系中相应的第一点的坐标;

计算所述第一样本中的至少一些第一样本的第一平均值;以及

计算所述第二样本中的至少一些第二样本的第二平均值。

2.根据权利要求1所述的系统,其中:

在所述起始条件下,所述处理单元被配置为:

通过计算圆周的半径,定义圆形基本形状,所述圆周以所述第一平均值和所述第二平均值为几何中心,并且包围所述双轴参考系中的所有所述第一点,

并且其中在继所述起始条件之后的操作条件下,所述处理单元被配置为:

获取当前第二静电电荷信号;

对所述第二静电电荷信号进行采样,并且生成由多个第三样本形成的第二采样信号;

对于每个第三样本,计算相对于时间的导数,并且生成由相应的多个第四样本形成的第一导数信号,每个第三样本和相应的第四样本是所述双轴参考系中相应的第二点的坐标;

验证所述第二点中的一个或多个第二点在所述双轴参考系中是否具有在所述圆形基本形状之外的坐标;以及

响应于验证所述第二点中的一个或多个第二点在所述双轴参考系中具有在所述圆形基本形状之外的坐标,生成在监测的所述环境中的所述存在的检测信号。

3.根据权利要求2所述的系统,其中所述处理单元被配置为以50Hz对所述第一和静电电荷信号进行采样。

4.根据权利要求2所述的系统,其中所述处理单元被配置为:

在获取所述第一静电电荷信号后,用0-20Hz和40Hz-70Hz的范围内的通带对所述第一静电电荷信号进行滤波;以及

在获取所述第二静电电荷信号后,用0-20Hz和40Hz-70Hz的范围内的通带对所述第二静电电荷信号进行滤波。

5.根据权利要求2所述的系统,其中计算所述圆周的所述半径包括:将所述半径设置为所述几何中心与所述第一点中的每个第一点之间的最大距离的值。

6.根据权利要求2所述的系统,其中计算所述圆周的所述半径包括:将所述半径设置为所述几何中心与所述第一点中的每个第一点之间的距离的平均值,加上与在所述几何中心与所述第一点中的每个第一点之间的距离的标准偏差成比例的值。

7.根据权利要求2所述的系统,其中计算所述圆周的所述半径包括:将所述半径设置为所述几何中心与两个或更多个相应第一点之间的距离中的两个或更多个距离的平均值,加上与在所述几何中心与所述第一点中的每个第一点之间的距离的标准偏差成比例的值。

8.根据权利要求2所述的系统,其中所述处理单元被配置为验证所述几何中心与所述第二点中的所述一个或多个第二点之间的距离是否大于所述半径。

9.根据权利要求2所述的系统,其中在所述起始条件期间,所述处理单元被配置为重复多次以下操作:获取所述第一静电电荷信号,对所述第一静电电荷信号进行采样,生成第一导数信号,计算第一平均值,计算第二平均值,并且定义圆形基本形状。

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