[发明专利]一种新型纳米压印设备及其压印方法

说明书

本发明提出一种新型纳米压印设备，包括：吸盘，支撑装置，其设置有两个，分别位于吸盘的左侧及右侧；滴胶装置，其位于左侧支撑装置与吸盘之间；涂布装置，具有可伸缩的涂布块，通过涂布块的伸缩涂布胶液；固定装置，用于固定PET；压印曝光装置，具有可伸缩的压印头，并向第二固定装置的方向伸缩，压印头上具有透光区以及与透光区对应的紫外灯；胶液回收装置，收集压印溢出的废胶液。一种新型纳米压印设备的压印方法，包括以下步骤：S1：上料；S2：点胶；S3：涂布及废胶液回收；S4：压印；S5：脱模。本发明不仅能够自动点胶、涂布、压印曝光以及脱模，无需人工干预，且压印过程中产生无气泡产生，自动化程度高。

技术领域

本发明属于新型纳米压印设备技术领域，尤其涉及一种新型纳米压印设备及其压印方法。

背景技术

纳米压印技术，是通过光刻胶辅助，将模板上的微纳结构转移到待加工材料上的技术，其加工精度已经达到2纳米，超过了传统光刻技术达到的分辨率，有望在未来取代传统光刻技术，成为微电子、材料领域的重要加工手段。

现有的新型纳米压印设备，在压印时，当晶圆表面的纳米结构高度超过10微米，例如微透镜诊疗，匀光片等，因为紫外固化纳米胶液体要满足良好的流动性，保证结构填充完整，一般会添加溶剂导致其无法填充较深的纳米结构，所以无法旋涂匀胶的方式获得均匀的大于10微米的胶层，这种情况需要通过点胶压印的方式解决，而且，现有的新型纳米压印设备在纳米压印时，大都采用上、下点胶压印的方式，将胶体点在晶圆中心处，由于受重力等因素的影响，胶体从晶圆中心处会向四周流动，造成胶体上表面高低不平的现象，在PET和晶圆靠近的过程中，胶体会产生气泡，损坏纳米结构。

发明内容

本发明针对上述的技术问题，提出一种新型纳米压印设备及其压印方法，不仅能够自动点胶、涂布、压印曝光以及脱模，无需人工干预，且压印过程中产生无气泡产生，自动化程度高。

为了达到上述目的，本发明采用的技术方案为：一种新型纳米压印设备，包括：

吸盘，所述吸盘可升降，且在吸盘的上表面设置有真空槽，与所述真空槽连接有真空发生装置，以在吸盘上表面形成负压，用于吸附晶圆；

支撑装置，其设置有两个，分别位于所述吸盘的左侧及右侧，其中，左侧支撑装置上连接有可升降的第一升降块，右侧支撑装置上连接有可升降的第二升降块和第三升降块，所述左侧支撑装置以及右侧支撑装置上分别设置有两限位块，以相应的限位第一升降块、第二升降块以及第三升降块的升降位置；

滴胶装置，其位于左侧支撑装置与吸盘之间，所述滴胶装置包括移动机构，以及与所述移动机构连接有可转动的滴胶嘴组件，所述滴胶嘴组件转动至工作位置后，并通过移动机构移动，可向晶圆的不同位置滴胶；

涂布装置，与所述第三升降块连接，所述涂布装置具有可伸缩的涂布块，涂布块的宽度大于晶圆的宽度，以在所述晶圆上滴胶后，通过涂布块的伸缩涂布胶液；

固定装置，用于固定PET，包括连接于所述左侧支撑装置上的第一固定装置，以及连接于所述第二升降块上的第二固定装置，用于固定PET的两端，且所述第二固定装置的高度位于第一固定装置以上；

压印曝光装置，其与第一升降块连接，压印曝光装置具有可伸缩的压印头，压印头可与PET上表面相抵，并向第二固定装置的方向伸缩，所述压印头上具有透光区以及与透光区对应的紫外灯；

胶液回收装置，其具有收集槽，所述收集槽位于真空槽外侧，所述收集槽通过收集管连接有废液收集瓶，以收集压印溢出的废胶液。

在本发明的一些实施例中，所述真空发生装置包括设置于真空槽内的真空孔以及与真空孔连接的真空泵。

在本发明的一些实施例中，所述左侧支撑装置以及右侧支撑装置均为支撑杆，所述第一升降块、第二升降块、第三升降块均为升降电机，所述第一升降块位于所述第一固定装置上方，所述第二升降块位于所述第三升降块的下方。