[发明专利]电子设备、双纹理手机膜片及其制备方法在审
申请号: | 202110324578.2 | 申请日: | 2021-03-26 |
公开(公告)号: | CN115134437A | 公开(公告)日: | 2022-09-30 |
发明(设计)人: | 季旭东;王挺;韩春芳;尹佩永;陈国年;杨颖 | 申请(专利权)人: | 苏州苏大维格科技集团股份有限公司;苏州迈塔光电科技有限公司 |
主分类号: | H04M1/02 | 分类号: | H04M1/02 |
代理公司: | 苏州谨和知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 32295 | 代理人: | 唐静芳 |
地址: | 215123 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 电子设备 纹理 手机 膜片 及其 制备 方法 | ||
1.一种双纹理手机膜片,其特征在于,所述双纹理手机膜片包括自下向上依次层叠设置的基层、第一纹理层、第二纹理层、镀膜层以及丝印层,所述第一纹理层具有若干第一微纳结构,所述第二纹理层具有若干第二微纳结构,所述第一微纳结构和所述第二微纳结构的尺寸不同。
2.如权利要求1所述的双纹理手机膜片,其特征在于,所述第一纹理层的材料为第一UV胶,所述第二纹理层的材料为第二UV胶,所述第一UV胶和所述第二UV胶的材质相同时,所述第二UV胶的粘度为50-100mPa·s。
3.如权利要求2所述的双纹理手机膜片,其特征在于,相邻所述第一微纳结构之间设置有间隔槽,所述第一UV胶和所述第二UV胶的材质相同时,所述第二UV胶未填满所述间隔槽。
4.如权利要求1所述的双纹理手机膜片,其特征在于,所述第一微纳结构的周期为2-100um,深度为1-20um,所述第一微纳结构的截面形状为三角形、圆弧形、正方形中的任一种;所述第二微纳结构的周期为300nm-3um,深度为50nm-1um,所述第二微纳结构的形状为凸起或凹陷。
5.如权利要求1所述的双纹理手机膜片,其特征在于,所述基层材料为PET、PMMA、PC中的一种,所述基层的厚度为25-100um;所述镀膜层的材料为增亮膜、高透膜、SiO2、铟中的一种,所述镀膜层的厚度为60-140nm;所述丝印层的材料为油墨,所述丝印层的厚度为20-50um。
6.如权利要求1所述的双纹理手机膜片,其特征在于,所述双纹理手机膜片还包括设置在所述基层远离所述第一纹理层一侧的胶层、以及设置在所述基层和所述第一纹理层之间的颜色层。
7.如权利要求6所述的双纹理手机膜片,其特征在于,所述胶层材料为OCA胶;所述颜色层的材料为油墨,所述颜色层的厚度为20-60um;所述颜色层的颜色为单一、多种、渐变中的任一种。
8.一种如权利要求1-7项中任一项所述的双纹理手机膜片的制备方法,其特征在于,所述制备方法包括:
S1、提供基层,在所述基层上制备第一纹理层;
S2、在所述第一纹理层上制备第二纹理层;
S3、在所述第二纹理层上制备镀膜层;
S4、在所述镀膜层上制备丝印层,制备得到双纹理手机膜片。
9.如权利要求8所述的双纹理手机膜片的制备方法,其特征在于,通过UV转印法制备所述第一纹理层和所述第二纹理层;通过真空蒸镀或溅射工艺制备所述镀膜层;通过丝网印刷工艺制备所述丝印层。
10.一种电子设备,其特征在于,所述电子设备包括如权利要求1-7中任一项所述的双纹理手机膜片。
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