[发明专利]电子设备、双纹理手机膜片及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202110324578.2 申请日: 2021-03-26
公开(公告)号: CN115134437A 公开(公告)日: 2022-09-30
发明(设计)人: 季旭东;王挺;韩春芳;尹佩永;陈国年;杨颖 申请(专利权)人: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司;苏州迈塔光电科技有限公司
主分类号: H04M1/02 分类号: H04M1/02
代理公司: 苏州谨和知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 32295 代理人: 唐静芳
地址: 215123 江*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 电子设备 纹理 手机 膜片 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种双纹理手机膜片,其特征在于,所述双纹理手机膜片包括自下向上依次层叠设置的基层、第一纹理层、第二纹理层、镀膜层以及丝印层,所述第一纹理层具有若干第一微纳结构,所述第二纹理层具有若干第二微纳结构,所述第一微纳结构和所述第二微纳结构的尺寸不同。

2.如权利要求1所述的双纹理手机膜片,其特征在于,所述第一纹理层的材料为第一UV胶,所述第二纹理层的材料为第二UV胶,所述第一UV胶和所述第二UV胶的材质相同时,所述第二UV胶的粘度为50-100mPa·s。

3.如权利要求2所述的双纹理手机膜片,其特征在于,相邻所述第一微纳结构之间设置有间隔槽,所述第一UV胶和所述第二UV胶的材质相同时,所述第二UV胶未填满所述间隔槽。

4.如权利要求1所述的双纹理手机膜片,其特征在于,所述第一微纳结构的周期为2-100um,深度为1-20um,所述第一微纳结构的截面形状为三角形、圆弧形、正方形中的任一种;所述第二微纳结构的周期为300nm-3um,深度为50nm-1um,所述第二微纳结构的形状为凸起或凹陷。

5.如权利要求1所述的双纹理手机膜片,其特征在于,所述基层材料为PET、PMMA、PC中的一种,所述基层的厚度为25-100um;所述镀膜层的材料为增亮膜、高透膜、SiO2、铟中的一种,所述镀膜层的厚度为60-140nm;所述丝印层的材料为油墨,所述丝印层的厚度为20-50um。

6.如权利要求1所述的双纹理手机膜片,其特征在于,所述双纹理手机膜片还包括设置在所述基层远离所述第一纹理层一侧的胶层、以及设置在所述基层和所述第一纹理层之间的颜色层。

7.如权利要求6所述的双纹理手机膜片,其特征在于,所述胶层材料为OCA胶;所述颜色层的材料为油墨,所述颜色层的厚度为20-60um;所述颜色层的颜色为单一、多种、渐变中的任一种。

8.一种如权利要求1-7项中任一项所述的双纹理手机膜片的制备方法,其特征在于,所述制备方法包括:

S1、提供基层,在所述基层上制备第一纹理层;

S2、在所述第一纹理层上制备第二纹理层;

S3、在所述第二纹理层上制备镀膜层;

S4、在所述镀膜层上制备丝印层,制备得到双纹理手机膜片。

9.如权利要求8所述的双纹理手机膜片的制备方法,其特征在于,通过UV转印法制备所述第一纹理层和所述第二纹理层;通过真空蒸镀或溅射工艺制备所述镀膜层;通过丝网印刷工艺制备所述丝印层。

10.一种电子设备,其特征在于,所述电子设备包括如权利要求1-7中任一项所述的双纹理手机膜片。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于苏州苏大维格科技集团股份有限公司;苏州迈塔光电科技有限公司,未经苏州苏大维格科技集团股份有限公司;苏州迈塔光电科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110324578.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top