[发明专利]图像形成装置在审

专利信息
申请号: 202110323150.6 申请日: 2021-03-25
公开(公告)号: CN113448211A 公开(公告)日: 2021-09-28
发明(设计)人: 清水保;久保宪生;佐佐木麻美;田内康大;丰田祐司 申请(专利权)人: 京瓷办公信息系统株式会社
主分类号: G03G15/08 分类号: G03G15/08;G03G15/00
代理公司: 北京信慧永光知识产权代理有限责任公司 11290 代理人: 崔迎宾;李雪春
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 图像 形成 装置
【权利要求书】:

1.一种图像形成装置,能够执行在薄片体上形成图像的图像形成动作,其特征在于,包括:

像载体,进行旋转,并具有允许形成静电潜影且承载所述静电潜影由调色剂显现后的调色剂像的表面;

带电装置,使所述像载体带电为规定的带电电位;

曝光装置,配置在比所述带电装置靠所述像载体的旋转方向下游侧的位置,通过根据规定的图像信息对带电为所述带电电位的所述像载体的表面进行曝光,形成所述静电潜影;

显影装置,在比所述曝光装置靠所述旋转方向下游侧的规定的显影夹缝部与所述像载体对置地配置,包括显影辊,所述显影辊进行旋转,并具有承载由调色剂和载体构成的显影剂的周面,通过向所述像载体供给调色剂来形成所述调色剂像;

转印部,将承载在所述像载体上的所述调色剂像转印于薄片体;

显影偏置施加部,能够将在直流电压上叠加有交流电压的显影偏置施加于所述显影辊;

电流检测部,能够检测在所述显影辊与所述显影偏置施加部之间流动的显影电流的直流分量;

浓度检测部,能够检测所述调色剂像的浓度;以及

偏置条件决定部,执行偏置条件决定模式,所述偏置条件决定模式为,在通过与形成在所述像载体上的规定的测定用潜影对应地向所述显影辊施加所述显影偏置而由调色剂将所述测定用潜影显影为测定用调色剂像时,基于由所述电流检测部检测到的所述显影电流的直流分量或者由所述浓度检测部检测到的所述测定用调色剂像的浓度,决定成为在所述图像形成动作中对所述显影辊施加的所述交流电压的峰值间电压和所述直流电压各自的基准的基准电压,

所述偏置条件决定部作为所述偏置条件决定模式而能够分别执行如下模式:

直流电压决定模式,基于由所述浓度检测部检测到的所述测定用调色剂像的浓度,决定成为在所述图像形成动作中对所述显影辊施加的所述显影偏置的所述直流电压的基准的基准直流电压;以及

峰值间电压决定模式,在通过对所述显影辊施加所述显影偏置而由调色剂将所述测定用潜影显影为所述测定用调色剂像时,基于由所述电流检测部检测到的所述显影电流的直流分量,决定成为在所述图像形成动作中对所述显影辊施加的所述显影偏置的所述交流电压的峰值间电压的基准的基准峰值间电压,

所述偏置条件决定部根据在所述直流电压决定模式中决定的所述基准直流电压,判定是否需要执行所述峰值间电压决定模式。

2.根据权利要求1所述的图像形成装置,其特征在于,

所述偏置条件决定部在执行所述峰值间电压决定模式之后,通过对所述显影辊施加包括根据所述决定的基准峰值间电压设定的峰值间电压的显影偏置,能够再次执行所述直流电压决定模式。

3.根据权利要求1所述的图像形成装置,其特征在于,

在由第n次的所述直流电压决定模式决定的所述基准直流电压与由第n+1次的所述直流电压决定模式决定的所述基准直流电压之差大于预先设定的阈值的情况下,所述偏置条件决定部判定为需要在执行所述第n+1次的所述直流电压决定模式之后执行所述峰值间电压决定模式,其中,n为自然数。

4.根据权利要求1所述的图像形成装置,其特征在于,

在由所述直流电压决定模式决定的所述基准直流电压小于预先设定的下限阈值的情况下,或者在所述决定的所述基准直流电压大于预先设定的上限阈值的情况下,所述偏置条件决定部判定为需要在执行所述直流电压决定模式之后执行所述峰值间电压决定模式。

5.根据权利要求4所述的图像形成装置,其特征在于,

在由所述直流电压决定模式决定的所述基准直流电压小于所述下限阈值的情况下,所述偏置条件决定部将在执行所述直流电压决定模式之后执行的所述峰值间电压决定模式中对所述显影辊施加的所述显影偏置的所述直流电压设定为比所述决定的基准直流电压大的值。

6.根据权利要求5所述的图像形成装置,其特征在于,

所述偏置条件决定部将在执行所述直流电压决定模式之后执行的所述峰值间电压决定模式中对所述显影辊施加的所述显影偏置的所述直流电压设定为包含在从所述下限阈值与所述上限阈值的中间值到所述上限阈值为止的范围内的值。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京瓷办公信息系统株式会社,未经京瓷办公信息系统株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110323150.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top