[发明专利]一种用于光纤激光窗口保护片表面处理的混酸及处理方法

说明书

一种用于光纤激光窗口保护片表面处理的混酸及处理方法，所述混酸包括一号混酸和二号混酸，所述一号混酸和所述二号混酸均由强酸、络合剂和纯水构成，所述一号混酸由所述强酸、所述络合剂和所述纯水按照摩尔比4:1:10～4:1:40构成；所述二号混酸由所述强酸、所述络合剂和所述纯水按照摩尔比4:1:50～4:1:100构成。本发明所采用的混酸由强酸、络合剂和纯水按照一定比例构成。该混酸中的强酸在表面处理过程中能有效去除光纤激光窗口保护片的微裂纹和杂质粒子，同时由于络合剂的存在使得表面反应均匀平稳，同时能最大限度去除杂质和缺陷，从而降低保护片对激光的吸收以及微裂纹尖端的光场聚集，从而提高光纤激光窗口保护片的损伤阈值。

技术领域

本发明涉及光纤激光窗口保护片，特别是一种用于光纤激光保护窗口保护片表面处理的混酸及处理方法。

背景技术

随着光纤激光技术的成熟，激光加工技术也开始进入到一个飞速发展的时期，已经成为全球的一个高新技术产业。伴随着技术的不断发展，光纤激光加工系统的输出功率不断提升，对光纤激光窗口保护片的性能提出了更高要求。传统加工方式得到的光纤激光窗口保护片内包含抛光层杂质、内镶嵌污染物、亚表面缺陷等。这些缺陷和杂质的存在会导致光纤激光窗口保护片的损伤阈值。当前解决该问题主要有两个途径，第一个是不断提升抛光技术，减少亚表面缺陷和杂质的数量；第二个是采用后处理方式去除或降低杂质和缺陷的影响。由于提升抛光技术需要投入大量的仪器设备，同时延长抛光时间，势必会大大增加加工成本。因此抛光后的处理技术是一种有效去除光纤激光窗口保护片中杂质和缺陷，提升其损伤阈值的有效手段。

目前，光纤激光窗口保护片多采用氢氟酸或者氢氟酸结合NH₄F对光纤激光窗口保护片进行酸处理，但这种方法存在一系列问题：若酸浓度过高则腐蚀严重，反而效果不好，酸浓度过低则腐蚀所需时间过长，同时腐蚀过程中反应生成物六氟硅酸盐容易沉淀，致使光纤激光窗口保护片面型遭到破坏且大幅降低其激光损伤阈值

所以，针对现有技术存在的不足，有必要设计一种用于光纤激光窗口保护片表面处理的混酸及处理方法，以解决上述问题。

发明内容

为克服上述现有技术中的不足，本发明目的在于提供一种用于光纤激光窗口保护片表面处理的混酸及处理方法，该混酸和处理方法能有效去除光纤激光窗口保护片表面的微裂纹以及杂质离子，从而提高光纤激光窗口保护片的损伤阈值。

为实现上述目的及其他相关目的，本发明提供的技术方案是：一种用于光纤激光窗口保护片表面处理的混酸，所述混酸包括一号混酸和二号混酸，所述一号混酸和所述二号混酸均由强酸、络合剂和纯水构成，所述一号混酸由所述强酸、所述络合剂和所述纯水按照摩尔比4:1:10～4:1:40构成；所述二号混酸由所述强酸、所述络合剂和所述纯水按照摩尔比4:1:50～4:1:100构成：

所述强酸摩尔百分比组成为：

HF15～60mol％

HCl 0～10mol％

HNO₃ 5～20mol％

HClO₄ 5～40mol％

H₂SO₄ 5～15mol％

所述络合剂的摩尔百分比组成为：

EDTA 10～70mol％

NaPO₃5～15mol％

H₂C₂O₄10～35mol％

NH₄F 0～35mol％。

一种光纤激光窗口保护片的表面处理方法，包括以下步骤：