[发明专利]零维Cs2 有效
申请号: | 202110303979.X | 申请日: | 2021-03-22 |
公开(公告)号: | CN115108575B | 公开(公告)日: | 2023-08-18 |
发明(设计)人: | 史志锋;马壮壮;姬心震;张飞;李新建 | 申请(专利权)人: | 郑州大学 |
主分类号: | C01G3/00 | 分类号: | C01G3/00;C09K11/61;H10K50/115;H10K71/16;H10K71/12;B82Y40/00 |
代理公司: | 郑州慧广知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 41160 | 代理人: | 付晓利 |
地址: | 450001 河南*** | 国省代码: | 河南;41 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | cs base sub | ||
1.零维Cs2CuCl4纳米晶的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
(1)将2.5毫摩尔的碳酸铯、2.5毫升的油酸和10毫升的十八烯混合并加热到100℃,在氮气下维持2小时,获得油酸铯前驱液;
(2)将0.27毫摩尔的氯化铜、5毫升的十八烯、0.5毫升油酸和0.5毫升油胺混合并加热到100℃,在氮气下维持2小时,去除混合物中的水分;
(3)随后在100℃下,向步骤(2)的混合物中快速注入0.5毫升的油酸铯前驱液,在反应5分钟后使用冰水浴将其快速冷却,将冷却后的溶液进行离心提纯,得到零维Cs2CuCl4纳米晶。
2.基于零维Cs2CuCl4纳米晶的绿光LED,其特征在于,包括透明导电的衬底,透明导电衬底上依次设有空穴注入层、空穴传输层、Cs2CuCl4纳米晶发光层、电子传输层以及接触电极,零维Cs2CuCl4纳米晶采用权利要求1所述制备方法制备。
3.根据权利要求2所述的绿光LED,其特征在于,Cs2CuCl4纳米晶发光层厚度为40~80纳米,其中单个纳米晶的尺寸为14~20纳米。
4.根据权利要求2所述的绿光LED,其特征在于,衬底为ITO导电玻璃,其厚度为120~150纳米,电阻率为1.0×10–4~5.0×10–3欧姆∙厘米。
5.根据权利要求2所述的绿光LED,其特征在于,空穴注入层为聚乙撑二氧噻吩-聚苯乙烯磺酸钠,其厚度为25~35纳米。
6.根据权利要求2所述的绿光LED,其特征在于,空穴传输层为聚[双(4-苯基)(4-丁基苯基)胺]或聚(9-乙烯基咔唑)或两者复合层,厚度为10~60纳米。
7.根据权利要求2所述的绿光LED,其特征在于,电子传输层为1,3,5-三(1-苯基-1H-苯并咪唑-2-基)苯,其厚度为30~50纳米。
8.根据权利要求2所述的绿光LED,其特征在于,接触电极为氟化锂和金属铝的复合材料,其厚度为100~150纳米。
9.权利要求2-8之一所述的基于零维Cs2CuCl4纳米晶的绿光LED的制备方法,包括以下步骤:
(1)清洗透明导电的衬底;
(2)采用低温溶液法在衬底上制备空穴注入层;
(3)在空穴注入层上采用低温溶液法制备空穴传输层;
(4)将Cs2CuCl4纳米晶溶液采用溶液旋涂法在空穴传输层上制备Cs2CuCl4纳米晶发光层;
(5)采用热真空蒸镀法在Cs2CuCl4纳米晶发光层上制备电子传输层;
(6)采用热真空蒸镀法在电子传输层上制备电极。
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