[发明专利]光模块波长控制方法、装置及存储介质有效

专利信息
申请号: 202110303329.5 申请日: 2021-03-22
公开(公告)号: CN113113842B 公开(公告)日: 2022-07-12
发明(设计)人: 穆磊;阮扬;王凯;杨智;潘罡;刘冉;刘磊 申请(专利权)人: 武汉光迅科技股份有限公司
主分类号: H01S5/06 分类号: H01S5/06;H01S5/068;H01S5/0683
代理公司: 北京派特恩知识产权代理有限公司 11270 代理人: 邵磊;张颖玲
地址: 430074 湖*** 国省代码: 湖北;42
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 模块 波长 控制 方法 装置 存储 介质
【权利要求书】:

1.一种光模块波长控制方法,其特征在于,所述方法包括:

确定光模块中发射光组件TOSA对应的初始温度补偿曲线;所述初始温度补偿曲线用于反映控制电压与环境温度之间的关系;所述控制电压为施加在所述TOSA中半导体制冷器TEC上的且用于控制所述TOSA发出的光波的波长;

依据当前环境温度和所述初始温度补偿曲线获得需要施加在所述TEC上的第一控制电压;及基于所述第一控制电压控制所述TOSA发出第一光波,所述第一光波的波长为第一波长;

在所述第一波长不满足设定范围的情况下,调整施加在所述TEC上的控制电压,直到施加在所述TEC上的控制电压达到第二控制电压,所述第二控制电压能够控制所述TOSA在所述当前环境温度下发出第二光波,所述第二光波的波长为满足所述设定范围的第二波长;并基于所述第二控制电压更新所述初始温度补偿曲线。

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述确定光模块中发射光组件TOSA对应的初始温度补偿曲线,包括:

获得所述TOSA内工作温度与所述环境温度之间的第一关系;以及获得所述工作温度与施加在所述TEC上的控制电压之间的第二关系;

基于所述第一关系和所述第二关系确定所述TOSA对应的初始温度补偿曲线;

其中,在所述工作温度下,所述TOSA能够发出波长满足所述设定范围的光波。

3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述调整施加在所述TEC上的控制电压,直到施加在所述TEC上的控制电压达到第二控制电压,包括:

基于预设电压步长和所述TOSA内当前温度调整施加在所述TEC上的控制电压,并进行所述TOSA发出的光波的波长是否满足设定范围的判断;直到施加在所述TEC上的控制电压达到第二控制电压为止。

4.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,所述基于预设电压步长和所述TOSA内当前温度调整施加在所述TEC上的控制电压,包括:

基于所述当前温度和预设工作温度范围确定电压调整方向;所述预设工作温度范围为所述TOSA发出光波的波长满足所述设定范围时所述TOSA内需要满足的工作温度的范围;

基于所述电压调整方向和所述预设电压步长调整施加在所述TEC上的控制电压。

5.根据权利要求4所述的方法,其特征在于,所述基于所述当前温度和预设工作温度范围确定电压调整方向,包括:

比较所述当前温度与所述预设工作温度范围内的最小值,获得第一比较结果;以及比较所述当前温度与所述预设工作温度范围内的最大值,获得第二比较结果;

基于所述第一比较结果和所述第二比较结果确定所述电压调整方向;

其中,在所述第一比较结果为所述当前温度小于所述最小值且所述第二比较结果为所述当前温度小于所述最大值的情况下,所述电压调整方向为增加施加在所述TEC上的控制电压;在所述第一比较结果为所述当前温度大于所述最小值且所述第二比较结果为所述当前温度大于所述最大值的情况下,所述电压调整方向为减小施加在所述TEC上的控制电压。

6.根据权利要求5所述的方法,其特征在于,在所述电压调整方向为增加施加在所述TEC上的控制电压的情况下,所述基于所述电压调整方向和所述预设电压步长调整施加在所述TEC上的控制电压,包括:在所述第一控制电压的基础上,将施加在所述TEC上的控制电压增加所述预设电压步长;

对应的,在所述电压调整方向为减小施加在所述TEC上的控制电压的情况下,所述基于所述电压调整方向和所述预设电压步长调整施加在所述TEC上的控制电压,包括:在所述第一控制电压的基础上,将施加在所述TEC上的控制电压减小所述预设电压步长。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉光迅科技股份有限公司,未经武汉光迅科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110303329.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top