[发明专利]平衡式流体研磨机

说明书

本发明公开了一种平衡式流体研磨机，包括水平移动机构，以及与水平移动机构连接的移动架，移动架上设有料杆驱动机构；还包括设于料杆驱动机构下方的磨料腔体机构，磨料腔体机构包括底板、箱体、旋转组件、振动组件和平衡组件；振动组件设于箱体；旋转组件设于底板上，旋转组件包括旋转电机、传动齿轮组以及旋转盘，旋转电机与传动齿轮组传动连接，旋转盘与传动齿轮组啮合，箱体设于旋转盘上，并与所述旋转盘共轴设置；平衡组件包括环绕箱体设置的安装体，设于安装体上的第一磁吸件，以及设于箱体上的第二磁吸件，所述第一磁吸件和第二磁吸件之间相互排斥且位置相对应。本发明提供的平衡式流体研磨机，研磨质量好，效率高。

技术领域

本发明涉及研磨设备技术领域，具体地说，涉及一种平衡式流体研磨机。

背景技术

现有技术的流体抛光设备包括磨料箱和研磨杆组件，待磨工件装夹于研磨杆，使研磨杆在磨料箱移动，流体研磨料与工件表面发生高速碰撞，使得流体研磨料对工件表面产生磨削作用。由于磨料箱内的磨料流动性差，工件无法与新磨料充分接触，其打磨质量受局限，表面处理效率难以满足生产需求。

发明内容

本发明的目的在于提供一种平衡式流体研磨机，研磨质量好，效率高。

本发明公开的平衡式流体研磨机所采用的技术方案是:

一种平衡式流体研磨机，包括水平移动机构，以及与水平移动机构连接的移动架，所述移动架上设有料杆驱动机构，所述水平移动机构用于带动移动架进行往复运动；还包括设于料杆驱动机构下方的磨料腔体机构，所述磨料腔体机构包括底板、箱体、旋转组件、振动组件和平衡组件；所述振动组件设于箱体，所述振动组件用于驱使箱体振动；所述旋转组件设于底板上，所述旋转组件包括旋转电机、传动齿轮组以及旋转盘，所述旋转电机与传动齿轮组传动连接，所述旋转盘与传动齿轮组啮合，所述箱体设于旋转盘上，并与所述旋转盘共轴设置；所述平衡组件包括环绕箱体设置的安装体，设于安装体上的第一磁吸件，以及设于箱体上的第二磁吸件，所述第一磁吸件和第二磁吸件之间相互排斥且位置相对应。

作为优选方案，所述第一磁吸件环绕安装体的内壁设置，所述第二磁吸件环绕箱体的外壁设置。

作为优选方案，所述第二磁吸件设有至少两组，两组所述第二磁吸件分别设于箱体的底部和顶部，所述第一磁吸件设有至少两组，两组所述第一磁吸件分别设于安装体的底部和顶部。

作为优选方案，还包括升降机构，以及与升降机构连接的升降架，所述水平移动机构设于升降架，所述升降机构用于带动升降架进行往复运动。

作为优选方案，所述升降机构包括升降伺服电机和升降组件，所述升降组件包括与升降伺服电机连接的蜗轮蜗杆组，以及与蜗轮蜗杆组连接的丝杆，所述丝杆固定于升降架。

作为优选方案，所述水平移动机构包括设于升降架上的导轨和气缸，以及设于导轨上的滑块，所述移动架设于滑块上，所述气缸与移动架连接。

作为优选方案，所述旋转盘与底板之间设有平面轴承。

作为优选方案，所述旋转组件还包括可转动设于底板的旋转筒轴；所述旋转盘固定于旋转筒轴上端，所述旋转盘、平面轴承、旋转筒轴共轴设置。

作为优选方案，所述旋转筒轴包括轴盘和轴杆，所述轴盘与旋转盘固定连接，所述轴杆上端连接轴盘，所述轴杆下端可转动的穿设在底板上开设的轴孔内。

作为优选方案，所述料杆驱动机构包括公转机构和自转机构，所述公转机构包括公转电机、公转盘和公转轴，所述公转电机与公转轴连接，所述公转轴与公转盘连接，所述自转机构包括自转电机、第一自转轴、第一齿轮、传动组和第二齿轮，所述自转电机与第一自转轴连接，所述第一自转轴与第一齿轮连接，所述传动组套设于公转轴，所述传动组分别与第一齿轮和第二齿轮连接，所述第二齿轮设于公转盘上。