[发明专利]用于能量存储单元的支架组件及其制造方法在审

专利信息
申请号: 202110296755.0 申请日: 2021-03-19
公开(公告)号: CN115117499A 公开(公告)日: 2022-09-27
发明(设计)人: M·加格;C·撒布莱蒙尼姆;H·V·钱德拉肯特 申请(专利权)人: TVS电机股份有限公司
主分类号: H01M10/613 分类号: H01M10/613;H01M10/625;H01M10/659;H01M10/6554;H01M10/653;H01M10/6572;H01M50/244;H01M50/249;H01M50/204;H01M50/258
代理公司: 北京市铸成律师事务所 11313 代理人: 林军;王珺
地址: 印度,*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 用于 能量 存储 单元 支架 组件 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种用于电子设备的能量存储组(100)的能量存储单元(105)的支架组件(101),所述支架组件(101)被配置为主动冷却所述能量存储单元(105),包括:

单元支架(103),所述单元支架保持所述能量存储单元(105)并且被布置在由导电材料制成的外壳(102)内;

相变材料(104),加衬配置在所述单元支架(103)的至少两个侧面/表面上;

至少两个石墨片(106),加衬在所述相变材料(104)的至少两个侧面/表面的长度上并且保持与所述相变材料(104)热接触;以及

多个珀尔帖器件(107),所述多个珀尔帖器件沿所述石墨片(106)的长度加衬,并且被保持为在一侧上与所述石墨片(106)热接触,并且在另一侧上与所述外壳(102)热接触。

2.如权利要求1所述的支架组件(101),其中,所述珀耳帖器件(107)沿所述石墨片(106)的长度排列,每个所述器件(107)彼此以规则的间隔布置。

3.如权利要求1所述的支架组件(101),其中,所述珀尔帖器件(107)被保持为与所述石墨片(106)和所述外壳(102)热接触,具有均与所述石墨片(106)的至少一部分接触的冷表面和均与所述外壳(102)的至少一部分接触的热表面。

4.如权利要求1所述的支架组件(101),其中,所述相变材料涂覆有电绝缘材料。

5.如权利要求1所述的支架结构(101),其中,所述支架组件(101)使用方法(200)制造,所述方法包括以下步骤:

提供用于容纳所述能量存储单元(105)的所述单元支架(103);

用涂覆有电绝缘材料的所述相变材料(104)对所述单元支架(103)加衬,使得所述单元(105)的每个能量存储单元保持与所述相变材料(104)热接触;

沿所述相变材料(104)的至少两个侧面/表面的长度布置至少两个石墨片(106)以保持与所述相变材料(104)热接触;

沿每个所述石墨片(106)的长度以规则的间隔布置多个珀尔帖器件(107),使得每个珀尔帖器件(106)的冷表面(侧面)保持与所述石墨片(106)热接触,并且每个珀尔帖器件(107)的热表面(侧面)保持与所述外壳(102)的内表面(102c)热接触;以及

将保持所述单元(105)并且设置有所述相变材料(104)、所述石墨片(106)和所述珀耳帖器件(107)的所述单元支架(103)插入所述外壳(102)中,并且用一对左盖构件和右盖构件(102L、102R)覆盖所述外壳(102)。

6.一种用于制造用于电子设备的能量存储组(100)的能量存储单元(105)的支架组件(101)的方法,所述支架组件(101)被配置为主动冷却所述能量存储单元(105),所述方法包括以下步骤:

用涂覆有电绝缘材料的所述相变材料(104)对所述单元支架(103)加衬,使得所述单元(105)的每个能量存储单元保持与所述相变材料(104)热接触;

沿所述相变材料(104)的至少两个侧面/表面的长度布置至少两个石墨片(106)以保持与所述相变材料(104)热接触;

沿每个所述石墨片(106)的长度以规则的间隔布置多个珀尔帖器件(107),使得每个珀尔帖器件(106)的冷表面(侧面)保持与所述石墨片(106)热接触,并且每个珀尔帖器件(107)的热表面(侧面)保持与所述外壳(102)的内表面(102c)热接触;以及

将保持所述单元(105)并且设置有所述相变材料(104)、所述石墨片(106)和所述珀耳帖器件(107)的所述单元支架(103)插入到所述外壳(102)中,并且用一对左盖构件和右盖构件(102L、102R)覆盖所述外壳(102)。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于TVS电机股份有限公司,未经TVS电机股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110296755.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top