[发明专利]靶装置在审

专利信息
申请号: 202110293440.0 申请日: 2021-03-19
公开(公告)号: CN113470844A 公开(公告)日: 2021-10-01
发明(设计)人: 村上喜信;F·圭拉 申请(专利权)人: 住友重机械工业株式会社
主分类号: G21G1/10 分类号: G21G1/10
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 刘杰
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 装置
【权利要求书】:

1.一种靶装置,其具备:

靶容纳部,具有容纳靶液体的第1区域及位于第1区域的上方并接收沸腾的所述靶液体的气液混合物的第2区域;及

冷却机构,在与对所述靶液体照射的射束的照射方向相反的一侧,利用制冷剂冷却所述靶容纳部,

所述冷却机构具备至少冷却所述第1区域的第1冷却部及至少冷却所述第2区域的第2冷却部,

所述第2冷却部在所述第2区域形成从上方朝向下方的所述制冷剂的流动。

2.根据权利要求1所述的靶装置,其中,

所述第1冷却部具备对与所述第1区域之间的隔壁喷射所述制冷剂的第1喷嘴部,

所述第2冷却部具备对与所述第2区域之间的隔壁喷射所述制冷剂的第2喷嘴部,

在所述第2冷却部中,在比所述第2喷嘴部的喷射部位靠下侧形成所述从上方朝向下方的所述制冷剂的流动。

3.根据权利要求1或2所述的靶装置,其中,

所述第1冷却部中所述制冷剂所流经的第1内部空间与所述第2冷却部中所述制冷剂所流经的第2内部空间被彼此隔开。

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