[发明专利]玻璃

说明书

本发明提供一种耐热性高、热膨胀系数低、且生产性优异的玻璃，所述玻璃的特征在于，作为玻璃组成以摩尔％计含有SiO₂ 55～80％、Al₂O₃ 12～30％、B₂O₃ 0～3％、Li₂O+Na₂O+K₂O 0～1％、MgO+CaO+SrO+BaO5～35％，且在30～380℃的温度范围的热膨胀系数不足40×10^‑7/℃。

本申请是申请号：201680009894.8，PCT申请号：PCT/JP2016/060913，申请日：2016.4.1，发明名称：“玻璃”的申请的分案申请。

技术领域

本发明涉及一种玻璃，尤其涉及适合于有机显示器、液晶显示器的基板的无碱玻璃。

背景技术

有机EL显示器等电子器件由于薄型、动画显示优异并且消耗电力也以及用于移动电话的显示器等用途。

作为有机EL显示器的基板，广泛使用玻璃基板。在该用途的玻璃基板中使用无碱玻璃(玻璃组成中的碱成分的含量为0.5摩尔％以下的玻璃)。由此可以防止碱离子扩散到利用热处理工序成膜的半导体物质中的情况。

发明内容

发明要解决的课题

对该用途的无碱玻璃要求例如以下的要求特性(1)～(3)。

(1)为了使玻璃基板低廉化，要求生产率优异、尤其是耐失透性或熔融性优异。

(2)在p-Si·TFT、尤其是高温p-Si等的制造工序中，为了降低玻璃基板的热收缩，要求应变点高。

(3)为了与在玻璃基板上所成膜的构件(例如p-Si)的热膨胀系数匹配，要求具有低热膨胀系数。

但是，不容易兼顾上述要求特性(1)和(2)。即，若要提高无碱玻璃的应变点，则耐失透性和熔融性容易降低，反之，若要提高无碱玻璃的耐失透性和熔融性，则应变点容易降低。

另外，还不容易兼顾上述要求特性(1)和(3)。即，若要降低无碱玻璃的热膨胀系数，则耐失透性和熔融性容易降低，反之，若要提高无碱玻璃的耐失透性和熔融性，则热膨胀系数容易上升。

另外，在显示器的薄型化中一般使用玻璃基板的化学蚀刻。该方法是通过使贴合有2片玻璃基板的显示器面板浸渍于HF(氢氟酸)系药液来薄化玻璃基板的方法。因此，在进行玻璃基板的化学蚀刻的情况下，除了要求特性(1)～(3)外，为了提高显示器面板的生产效率，还要求使利用HF的蚀刻速率较高。

进而，为了抑制因玻璃基板的挠曲所致的不良情况，还要求使杨氏模量(或比杨氏模量)较高。

本发明是鉴于上述情况完成的发明，其技术课题在于发明耐热性高、热膨胀系数低、而且生产率优异的玻璃。

用于解决课题的手段