[发明专利]CrMoN/MoS2 在审
| 申请号： | 202110277619.7 | 申请日： | 2021-03-15 |
| 公开（公告）号： | CN113061858A | 公开（公告）日： | 2021-07-02 |
| 发明（设计）人： | 贾均红;鲁成;时昀;何乃如;张广安;孙航;杨鑫然;王奎;蔡粮臣 | 申请（专利权）人： | 陕西科技大学 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/16;C23C14/06;C23C14/02 |
| 代理公司： | 西安通大专利代理有限责任公司 61200 | 代理人： | 李鹏威 |
| 地址： | 710021*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | crmon mos base sub | ||
1.CrMoN/MoS2宽温域润滑耐磨复合薄膜，其特征在于，包括过渡层和面层，过渡层为Cr相，面层由95at％-98at％的氮化物陶瓷相及2at％-5at％的MoS2组成，所述氮化物陶瓷相为Mo2N和CrN。
2.根据权利要求1所述的CrMoN/MoS2宽温域润滑耐磨复合薄膜，其特征在于，过渡层的厚度为0.26～0.29μm，面层的厚度为2.5～2.9μm。
3.根据权利要求1所述的CrMoN/MoS2宽温域润滑耐磨复合薄膜，其特征在于，Mo2N和CrN的原子比为1:4。
4.根据权利要求1所述的CrMoN/MoS2宽温域润滑耐磨复合薄膜，其特征在于，薄膜的表面硬度为12.5～13.5GPa，结合强度不小于30N；室温至700℃宽温域内摩擦系数为0.6～0.18，室温至700℃宽温域内磨损率为1.0×10-6～7.9×10-6mm3N-1m-1。
5.如权利要求1至4任一项所述的CrMoN/MoS2宽温域润滑耐磨复合薄膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
S1，清洗靶材及基底材料，吹干后将其送入真空腔体中，所述靶材包括Cr靶、Mo靶和MoS2靶；
S2，打开Cr靶电源，将过渡层Cr溅射在经过清洗的基底表面，形成Cr相过渡层；
S3，打开Cr靶、Mo靶及MoS2靶的电源，采用磁控溅射沉积方法将靶材溅射至Cr相过渡层，形成面层，得到CrMoN/MoS2宽温域润滑耐磨复合薄膜。
6.根据权利要求5所述的CrMoN/MoS2宽温域润滑耐磨复合薄膜的制备方法，其特征在于，S2中的Cr相过渡层沉积时间为10min，Cr靶电流为3A，过渡层厚度为0.26～0.29μm。
7.根据权利要求5所述的CrMoN/MoS2宽温域润滑耐磨复合薄膜的制备方法，其特征在于，S3中，溅射面层时：Cr靶电流和MoS2靶电流分别为4A和0.4A,Mo靶电流为2A，溅射距离为100mm，面层厚度为2.5～2.9μm。
8.根据权利要求5所述的CrMoN/MoS2宽温域润滑耐磨复合薄膜的制备方法，其特征在于，S3中，真空腔体气压保持在0.6Pa，样品架转速为1.1rpm，Ar和N2流量分别为16sccm和24sccm，基底温度保持在150～200℃。
9.根据权利要求5所述的CrMoN/MoS2宽温域润滑耐磨复合薄膜的制备方法，其特征在于，基底为镍基金属。
10.根据权利要求5所述的CrMoN/MoS2宽温域润滑耐磨复合薄膜的制备方法，其特征在于，S1中，用无水丙酮和无水酒精清洗靶材及基底材料，Cr靶、Mo靶和MoS2靶材纯度为99.9％。
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