[发明专利]用于施源器的剂量调制方法

权利要求书

1.一种用于施源器的剂量调制方法，其特征在于，所述施源器包括电子线依次经过的限束器(1)、散射箔(2)和调制器(3)，所述调制方法包括：

确定所述电子线在所述调制器(3)的内部的等剂量线的剂量分布；

选择任一条所述等剂量线作为目标剂量的等剂量线；

通过保形变换使所述目标剂量的等剂量线与所述调制器(3)的轮廓重合；

根据保形变换前后的所述目标剂量的等剂量线，调整所述调制器(3)的等效密度。

2.根据权利要求1所述的用于施源器的剂量调制方法，其特征在于，所述调制方法还包括：

在确定所述电子线在所述调制器(3)的内部的等剂量线的剂量分布之前，通过公式：φ＝φ₀exp(-cρd)确定所述电子线穿过所述散射箔(2)时的电子线通量的衰减；

其中，c为常量，ρ为所述散射箔(2)的密度，d为所述散射箔(2)的厚度。

3.根据权利要求2所述的用于施源器的剂量调制方法，其特征在于，所述调制方法还包括：在确定所述电子线穿过所述散射箔(2)时的电子线通量的衰减之后，确定所述电子线穿过所述散射箔(2)时的电子能量损失，并根据所述电子能量损失在4MeV到20MeV的范围内调整电子线的电子能量。

4.根据权利要求1所述的用于施源器的剂量调制方法，其特征在于，通过保形变换使所述目标剂量的等剂量线与所述调制器(3)的轮廓重合包括：通过映射矩阵

将所述目标剂量的等剂量线上的坐标点转换至所述调制器(3)的轮廓上，其中表示目标剂量的等剂量线，表示所述调制器(3)的轮廓线。

5.根据权利要求1所述的用于施源器的剂量调制方法，其特征在于，根据保形变换前后的所述目标剂量的等剂量线，调整所述调制器(3)的等效密度包括：

通过引入一个单位正方体，并对所述正方体进行保形变换；

根据变换前后的所述正方体的体积比值确定变换前后的所述调制器(3)的密度比；

根据确定出的所述调制器(3)的密度比，选择相应的调节件放入所述调制器(3)内。

6.根据权利要求5所述的用于施源器的剂量调制方法，其特征在于，所述调节件为均匀填充于所述调制器(3)内的多个气凝胶微球(4)。

7.根据权利要求5所述的用于施源器的剂量调制方法，其特征在于，所述调节件为一端具有连接口的气囊(5)，所述连接口与所述限束器(1)对位连接。

8.根据权利要求1-7任一项所述的用于施源器的剂量调制方法，其特征在于，所述调制方法还包括：根据瘤床的形状对所述调制器(3)的形状、尺寸及选材进行设计；

根据所述调制器(3)的设计尺寸对所述限束器(1)的尺寸和选材进行设计；

根据所述调制器(3)和所述限束器(1)的设计尺寸对所述散射箔(2)的尺寸和选材进行设计。

9.根据权利要求8所述的用于施源器的剂量调制方法，其特征在于，所述调制方法还包括：

在调整所述调制器(3)的等效密度之后，验证目标剂量的等剂量线与所述调制器(3)的轮廓是否存在偏差；

在验证目标剂量的等剂量线与所述调制器(3)的轮廓存在偏差时，对所述施源器进行微调。

10.根据权利要求9所述的用于施源器的剂量调制方法，其特征在于，所述调制方法还包括：对所述施源器进行微调后，通过优化算法确定所述目标剂量的等剂量线的最优解，所述优化算法包括参数扫描、遗传算法中的任一种。