[发明专利]涂覆体和用于涂覆的方法在审
| 申请号： | 202110268268.3 | 申请日： | 2021-03-12 |
| 公开（公告）号： | CN113388810A | 公开（公告）日： | 2021-09-14 |
| 发明（设计）人： | D.班纳吉;C.查尔顿;J.科尔谢恩 | 申请（专利权）人： | 肯纳金属公司 |
| 主分类号： | C23C14/06 | 分类号： | C23C14/06;C23C14/08;C23C14/18;C23C14/32;C23C14/35 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 卢亚静 |
| 地址： | 美国宾夕*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 涂覆体 用于 方法 | ||
1.一种涂覆体，所述涂覆体具有基体和通过物理气相沉积施加到所述基体的涂层，所述涂层包含：
邻近所述基体的主层，其中所述主层包含至少Al和Ti的氮化物；
邻近所述主层的多层，其中所述多层包括氧化物或氧氮化物层与氮化物层的交替层，其中所述氧化物或氧氮化物层包含Zr、Hf和Cr中的至少之一的氧化物或氧氮化物，并且其中所述氮化物层包含Zr、Hf和Cr中的至少之一的氮化物；和
在所述主层与所述多层之间或者在所述多层的所述氧化物或氧氮化物层与所述氮化物层之间的金属间层。
2.根据权利要求1所述的涂覆体，其中所述主层包含AlTiN和AlTiMeN中的至少之一，其中Me为Zr、Hf和Cr中的至少之一。
3.根据权利要求1所述的涂覆体，其中所述氧化物或氧氮化物层包含Zr的氧化物或氧氮化物。
4.根据权利要求1所述的涂覆体，其中所述氧化物或氧氮化物层包含Al与Zr、Hf和Cr中的至少之一的氧化物或氧氮化物。
5.根据权利要求1所述的涂覆体，其中所述氧化物或氧氮化物层包含Al和Zr的氧化物或氧氮化物。
6.根据权利要求1所述的涂覆体，其中所述氮化物层包含Zr的氮化物。
7.根据权利要求1所述的涂覆体，其中所述氮化物层包含Al与Zr、Hf和Cr中的至少之一的氮化物。
8.根据权利要求1所述的涂覆体，其中所述氮化物层包含Al和Zr的氮化物。
9.根据权利要求1所述的涂覆体，其中所述主层的平均厚度在1μm至10μm之间。
10.根据权利要求1所述的涂覆体，其中所述氧化物或氧氮化物层的平均厚度在10nm至200nm之间。
11.根据权利要求1所述的涂覆体，其中所述氮化物层的平均厚度在10nm至200nm之间。
12.根据权利要求1所述的涂覆体，其中多层的平均厚度在0.1μm至5μm之间。
13.根据权利要求1所述的涂覆体，其中多层具有1至10个之间的交替层，每一个所述交替层为所述氧化物或氧氮化物层与所述氮化物层的交替层。
14.根据权利要求1所述的涂覆体，其中所述金属间层包含Al、Zr、Hf和Cr中的至少之一。
15.根据权利要求1所述的涂覆体，其中所述金属间层的平均厚度在1nm至50nm之间。
16.根据权利要求1所述的涂覆体，其中所述金属间层的平均厚度在5nm至20nm之间。
17.根据权利要求1所述的涂覆体，其中第一金属间层在所述主层与所述多层之间，并且第二金属间层在所述多层的所述氧化物或氧氮化物层与所述氮化物层之间。
18.根据权利要求1所述的涂覆体，所述涂覆体还包括加在所述多层上面的最外指示层。
19.根据权利要求18所述的涂覆体，其中所述最外指示层包含TiN、TiAlN、ZrN、ZrAlN、CrN、CrAlN和HfN中的至少之一。
20.根据权利要求18所述的涂覆体，其中所述涂覆体还包括在所述多层与所述最外指示层之间的金属间层。
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