[发明专利]液体处理装置、液体处理系统及液体处理方法在审

专利信息
申请号: 202110255092.8 申请日: 2021-03-09
公开(公告)号: CN113385123A 公开(公告)日: 2021-09-14
发明(设计)人: 砂永伸也 申请(专利权)人: 恩普乐股份有限公司
主分类号: B01J19/08 分类号: B01J19/08;B01L3/00;C12M1/00;C12Q1/6806
代理公司: 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 代理人: 王蕊;臧建明
地址: 日本埼玉*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 液体 处理 装置 系统 方法
【权利要求书】:

1.一种液体处理装置,用于使用磁珠来处理液体,其特征在于,具备:

共用流路;

多个槽孔,与所述共用流路连接;

磁珠腔室,与所述共用流路连接,且用于使用磁珠来处理液体;以及

多个阀,分别设置于所述共用流路与所述多个槽孔及所述磁珠腔室之间,

所述多个阀是设置在第一圆的圆周上的旋转膜阀,

所述磁珠腔室设置在与所述第一圆为同心圆的第二圆的圆周上。

2.如权利要求1所述的液体处理装置,其中,

在俯视时,所述磁珠腔室的沿所述第二圆的圆周方向的长度大于所述磁珠腔室的在所述第二圆的径向上的长度。

3.如权利要求1或2所述的液体处理装置,其中,

还包含与所述共用流路连接的旋转膜泵。

4.一种液体处理系统,其特征在于,具备:

权利要求1至3中任意一项所述的液体处理装置;以及

旋转部件,构成为围绕穿过所述第一圆的中心和所述第二圆的中心的中心轴旋转,

所述旋转部件具备:

凸部,用于按压所述多个阀的隔膜;以及

永磁体,用于吸引所述磁珠腔室内的磁珠,

在俯视时,所述磁珠腔室的沿所述第二圆的圆周方向的长度大于所述永磁体的沿所述第二圆的圆周方向的长度。

5.如权利要求4所述的液体处理系统,其中,

在俯视时,所述磁珠腔室的在所述第二圆的径向上的长度小于等于所述永磁体的在所述第二圆的径向上的长度。

6.如权利要求4或5所述的液体处理系统,其中,

所述磁珠腔室的深度在所述磁珠的平均粒径的20倍以下。

7.一种液体处理方法,使用权利要求4至6中任意一项所述的液体处理系统来处理液体,该液体处理方法的特征在于,包括以下步骤:

向所述多个槽孔中的至少一个槽孔导入液体的步骤;

使所述旋转部件转动,从而打开所述多个阀中的与导入了所述液体的所述槽孔相对应的阀和与所述磁珠腔室相对应的阀的步骤;

在与导入了所述液体的所述槽孔相对应的所述阀和与所述磁珠腔室相对应的所述阀已打开的状态下,将所述液体从导入了所述液体的所述槽孔移动至容纳有磁珠的所述磁珠腔室中的步骤;以及

通过使所述旋转部件转动来改变所述永磁体相对于所述磁珠腔室的位置,从而混合所述磁珠腔室内的所述液体和所述磁珠的步骤。

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