[发明专利]发光装置、曝光装置及图像形成装置在审
申请号: | 202110234608.0 | 申请日: | 2021-03-03 |
公开(公告)号: | CN114253108A | 公开(公告)日: | 2022-03-29 |
发明(设计)人: | 粕谷洋介;远藤旭彦 | 申请(专利权)人: | 富士胶片商业创新有限公司 |
主分类号: | G03G15/04 | 分类号: | G03G15/04 |
代理公司: | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人: | 杨贝贝;臧建明 |
地址: | 日本东京*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 发光 装置 曝光 图像 形成 | ||
本发明涉及一种发光装置、曝光装置及图像形成装置。一种发光装置,其具备:发光部,在沿一方向延伸的树脂制的框体中保持有向与所述一方向交叉的发光方向发光的发光元件;抑制部件,沿所述一方向延伸且抑制由热引起的所述框体的变形,并且线膨胀率与所述框体不同;及固定部,在所述发光方向上与所述发光方向上的所述框体或所述发光部的中立轴或所述抑制部件的中立轴重叠的位置上,在沿所述一方向分开的复数个部位或以沿所述一方向延伸的方式固定所述框体和所述抑制部件。
技术领域
本发明涉及一种发光装置、曝光装置及图像形成装置。
背景技术
专利文献1中记载有曝光装置,该曝光装置具备:基板,具有沿一方向延伸的板状的主体部、安装于所述主体部的一面的复数个发光元件及安装于所述主体部的另一面且伴随所述发光元件的发光动作而发热的发热元件;树脂制框体,沿所述一方向延伸且形成贯穿孔的框状,并且以使所述基板的板厚方向成为所述贯穿孔的贯穿方向的方式所述基板固定于所述贯穿孔的内部;及抑制部件,沿所述一方向延伸且嵌入于所述贯穿孔,并且抑制所述框体的热变形。
专利文献1:日本特开2018-001567号公报
发明内容
本发明的课题在于,与固定框体和抑制部件的固定部均远离发光方向上的框体或发光部或抑制部件的中立轴的结构相比,抑制由热引起的框体的发光方向上的变形。
第1方式所涉及的发光装置具备:发光部,在沿一方向延伸的树脂制的框体中保持有向与所述一方向交叉的发光方向发光的发光元件;抑制部件,沿所述一方向延伸且抑制由热引起的所述框体的变形,并且线膨胀率与所述框体不同;及固定部,在所述发光方向上与所述发光方向上的所述框体或所述发光部的中立轴或所述抑制部件的中立轴重叠的位置上,在沿所述一方向分开的复数个部位或以沿所述一方向延伸的方式固定所述框体和所述抑制部件。
第2方式所涉及的发光装置在第1方式所述的发光装置中,所述固定部在所述发光方向上与所述框体或所述发光部的中立轴重叠。
第3方式所涉及的发光装置在第2方式所述的发光装置中,所述固定部在所述发光方向上与所述框体或所述发光部的中立轴及所述抑制部件的中立轴这两者重叠。
第4方式所涉及的发光装置在第1方式~第3方式中任一个所述的发光装置中,从所述一方向观察,所述抑制部件的宽度大于所述框体的宽度。
第5方式所涉及的发光装置在第4方式所述的发光装置中,所述抑制部件具有向所述发光方向开口的开口部,所述框体的至少一部分配置于所述抑制部件的内侧,所述固定部相对于所述开口部的缘部配置于与所述发光方向相反的一侧。
第6方式所涉及的曝光装置具备:第1方式~第5方式中任一个所述的发光装置;及光学部件,固定于所述框体而构成所述发光部,并且将所述发光装置所发射的光曝光于曝光对象上。
第7方式所涉及的图像形成装置具备:像保持体;第6方式所述的曝光装置,使光成像于带电的像保持体上而形成静电潜像;及显影装置,显影所述像保持体的静电潜像而形成图像。
发明效果
根据第1方式所涉及的发光装置,与固定框体和抑制部件的固定部在装置上下方向上均远离发光方向上的框体或发光部或抑制部件的中立轴的结构相比,由热引起的框体的发光方向上的变形得到抑制。
根据第2方式所涉及的发光装置,与固定框体和抑制部件的固定部在装置上下方向上仅与发光方向上的抑制部件的中立轴重叠的结构相比,由热引起的框体的发光方向上的变形得到抑制。
根据第3方式所涉及的发光装置,与固定框体和抑制部件的固定部在装置上下方向上仅与发光方向上的框体或发光部的中立轴重叠的结构相比,由热引起的框体的发光方向上的变形得到抑制。
根据第4方式所涉及的发光装置,与从一方向观察抑制部件的宽度小于框体的宽度的结构相比,框体的挠曲得到抑制。
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