[发明专利]一种高温结构陶瓷处理设备

权利要求书

1.一种高温结构陶瓷处理设备，其结构包括烘烤箱（1）、散热盖（2）、操控器（3）、设备箱（4），所述烘烤箱（1）上端顶部与散热盖（2）整体螺栓固定，所述烘烤箱（1）内部与设备箱（4）顶端间隙配合，所述设备箱（4）左端与操控器（3）顶部铰接连接，所述操控器（3）内部与烘烤箱（1）内部活动配合，其特征在于：

所述烘烤箱（1）包括承载盘（11）、烤腔（12）、隔热板（13）、密封仓门（14），所述承载盘（11）整体与烤腔（12）内部下端活动配合，所述烤腔（12）四周与隔热板（13）内侧活动配合，所述隔热板（13）前端表面与密封仓门（14）右端铰接连接。

2.根据权利要求1所述的一种高温结构陶瓷处理设备，其特征在于：所述承载盘（11）包括旋转盘（111）、腔壁（112）、活动腔（113）、加热板（114），所述旋转盘（111）整体与活动腔（113）内部活动配合，所述活动腔（113）四周与加热板（114）外端间隙配合，所述加热板（114）内壁与腔壁（112）表面嵌固连接。

3.根据权利要求2所述的一种高温结构陶瓷处理设备，其特征在于：所述旋转盘（111）包括防脱块（a1）、热射环（a2）、护环（a3）、换向端头（a4）、定位台（a5），所述防脱块（a1）底部与换向端头（a4）右端铰接连接，所述换向端头（a4）左端与热射环（a2）外端活动配合，所述热射环（a2）表面与定位台（a5）下端间隙配合，所述定位台（a5）四周与护环（a3）内侧活动配合。

4.根据权利要求3所述的一种高温结构陶瓷处理设备，其特征在于：所述防脱块（a1）包括伸缩条（a11）、块本体（a12）、硅胶球（a13）、活动槽（a14），所述伸缩条（a11）整体与活动槽（a14）内部活动配合，所述伸缩条（a11）表面与硅胶球（a13）整体嵌套连接，所述硅胶球（a13）后端与块本体（a12）前端间隙配合，所述块本体（a12）前表面与活动槽（a14）整体嵌套连接。

5.根据权利要求3所述的一种高温结构陶瓷处理设备，其特征在于：所述护环（a3）包括上载盘（a31）、防脱钩（a32）、驱动轴（a33）、减震块（a34），所述上载盘（a31）下端与驱动轴（a33）顶部螺旋配合，所述驱动轴（a33）两侧与防脱钩（a32）内侧间隙配合，所述防脱钩（a32）末端与减震块（a34）两端焊接连接，所述减震块（a34）上表面与上载盘（a31）底部活动配合。

6.根据权利要求5所述的一种高温结构陶瓷处理设备，其特征在于：所述减震块（a34）包括支撑块（b1）、受压条（b2）、降压环（b3）、平衡座（b4），所述支撑块（b1）上表面与降压环（b3）整体卡合连接，所述降压环（b3）内壁与受压条（b2）下表面焊接连接，所述受压条（b2）下表面与平衡座（b4）顶部螺旋连接，所述平衡座（b4）内侧与支撑块（b1）外端间隙配合。

7.根据权利要求6所述的一种高温结构陶瓷处理设备，其特征在于：所述支撑块（b1）包括缓冲块（b11）、间隔腔（b12）、卡环块（b13）、滑轮（b14），所述缓冲块（b11）上端与卡环块（b13）下端间隙配合，所述卡环块（b13）两侧与滑轮（b14）整体螺栓固定，所述卡环块（b13）整体与间隔腔（b12）内部滑动配合，所述间隔腔（b12）下表面与缓冲块（b11）内壁嵌固连接。

8.根据权利要求7所述的一种高温结构陶瓷处理设备，其特征在于：所述缓冲块（b11）包括硅胶条（c1）、橡胶套（c2）、弹力簧（c3），所述硅胶条（c1）下端与橡胶套（c2）上端嵌套连接，所述橡胶套（c2）内部与弹力簧（c3）整体嵌固连接，所述弹力簧（c3）顶部与硅胶条（c1）下表面间隙配合。