[发明专利]一种异形PET遮光圈结构及成型工艺

说明书

本发明公开了一种异形PET遮光圈结构，具有圆形的片本体，片本体的中心设置有透光孔，透光孔为扩口状，所述片本体包括依次设置的第一遮光层、第一PET层、中间层、第二PET层和第二遮光层，第一遮光层的内径为D1，第一PET层的内径为D2，中间层的内径为D3,第二PET层的内径为D，第二遮光层的内径为D5，且内径D1内径D2内径D3内径D4内径D5。本发明提供的该遮光片采用五层结构，再分别对不同层形成不同的直径，可以防止多余光线反射进入取景器内，提高成像质量，本发明提供的遮光片成型工艺，通过三次成型，形成至少不同的内径的内壁，进而使成型的遮光片防止多余光线反射进入取景器内，提高成像质量，成型质量好，易于控制。

技术领域

本发明涉及光学装置加工技术领域，具体为一种异形PET遮光圈结构及成型工艺。

背景技术

遮光片，又称之为挡光片，在摄像机、手机摄像头等领域中作为必须的遮光元件，其目的在于避免杂散光进入取景器内而影响成像的质量，用于摄像头中的挡光片，又叫光阑、遮光圈、麦拉片等，这种挡光片的厚度一般为0.025至0.012mm之间，其中心孔为通光孔。事实上光线间并不是总保持平行的照射，在光线内部因为强弱的不同，光线也会形成交叉，所以中心孔的边壁总会对光进行反射，部分会进一步进入取影器内。

目前，在遮光片领域中，主要核心工艺是如何降低中心孔的边壁反射，通常先是通过冲裁中心孔，然后在中心孔内喷涂吸光涂料来吸光并少射，这种现有技术通常只能一定程度地降低光反射，且随着摄像头使用时间的延长(例如手机、ipad、摄像头等使用时间通常在三年以上)，涂料容易发生自行脱落等缺点，从而因遮光片而影响摄像头成像。

发明内容

本发明的目的在于提供一种异形PET遮光圈结构及成型工艺，本遮光片结构能够大幅降低光反射至取景器中，而该金属层的遮光片采用的成型工艺不但易于批量化成型，而且长时间使用也不会对影像头成型造成影响。

为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：一种异形PET遮光圈结构，具有圆形的片本体，片本体的中心设置有透光孔，透光孔为扩口状，所述片本体包括依次设置的第一遮光层、第一PET层、中间层、第二PET层和第二遮光层，第一遮光层的内径为D1，第一PET层的内径为D2，中间层的内径为D3,第二PET层的内径为D，第二遮光层的内径为D5，且内径D1内径D2内径D3内径D4内径D5。

进一步的，所述中间层为碳素层。

进一步的，所述第一遮光层和第二遮光层均为油墨层。

本发明还提供了一种带金属层的遮光片成型工艺，包括如下成型步骤：

S1、在第一PET层上表面涂覆第一遮光层，下表面涂覆中间碳素层；

S2、在中间碳素层的下表面粘接第二PET层，并在第二PET层下表面涂

覆第二遮光层，形成遮光带；

S3、将遮光带进行冲切以形成单个的遮光片本体；

S4、将遮光片本体进行预冲孔形成扩口状的工艺孔；

S5、将遮光片本体置于溶液中对扩口状的工艺孔中的PET层进行表面溶解成型。

进一步的，在S5步骤中，所述溶液为氢氧化钾、氢氧化钠或氢氧化锂。

进一步的，所述溶解成型包括第一次成型、第二次成型和清洗，所述第一次成型的氢氧化钾溶液浓度为50％，温度为40℃；所述第二次成型的氢氧化钾溶液浓度为40％，温度为35℃，第二次成型后将遮光片本体进行残余清洗。

进一步的，根据权利要求5所述的一种异形PET遮光圈结构的成型工艺，其特征在于：所述溶解成型包括第一次成型、第二次成型和清洗，所述第一次成型的氢氧化钠溶液浓度为35％，温度为40℃；所述第二次成型的氢氧化钠溶液浓度为30％，温度为35℃，第二次成型后将遮光片本体进行残余清洗。