[发明专利]一种通过脱氮副球菌和希瓦氏菌共培养促进六价铬去除的方法有效

专利信息
申请号: 202110226714.4 申请日: 2021-03-01
公开(公告)号: CN113023902B 公开(公告)日: 2021-12-21
发明(设计)人: 陈银广;徐亚楠 申请(专利权)人: 同济大学
主分类号: C12N1/20 分类号: C12N1/20;C02F3/34;C02F101/22
代理公司: 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 代理人: 夏苗苗
地址: 200092 *** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 通过 脱氮副 球菌 希瓦氏菌共 培养 促进 六价铬 去除 方法
【权利要求书】:

1.一种通过脱氮副球菌和希瓦氏菌共培养促进六价铬去除的方法,其特征在于,所述方法包括以下步骤:

预先在有氧条件下用灭菌LB培养基分别培养脱氮副球菌和希瓦氏菌到OD600为2~4;并配置反硝化培养基:0.5~0.8g/L NH4Cl,0.1~0.8g/L MgSO4,2.0~3.2g/L KH2PO4,4.0~5.6g/L Na2HPO4,2.0~2.8g/L KNO3,7~13mg/L六价铬离子溶液,微量元素1~3mL;加入4.0~6.0mL/L乳酸钠,用NaOH和HCl调节体系的pH;110~150℃下灭菌15~30min;

向厌氧瓶中加入50~100mL的所述反硝化培养基,接着向所述厌氧瓶中加入待处理的六价铬溶液、灭过菌的50μl10~100g/L的CaCl2母液,再将预先培养好的脱氮副球菌接种到所述厌氧瓶中,确定初始接菌量为OD600=0.02~0.08;再接种希瓦氏菌,确定初始接菌量为OD600=0.04~0.20;氮气吹扫5~10min去除氧气;密封所述厌氧瓶,以还原所述待处理的六价铬溶液得到铬金属;

其中,所述微量元素的构成为:2.0~3.0g/LFeSO4·7H2O、6.5~7.6g/L Na2-EDTA、0.2~0.4g/LNa2MoO4·2H2O、0.01~0.03g/L MnCl2·4H2O、0.3~0.5g/L ZnCl2、0.01~0.03g/LCaCl2和0.1~0.4g/L CuCl2·2H2O。

2.如权利要求1所述的通过脱氮副球菌和希瓦氏菌共培养促进六价铬去除的方法,其特征在于,所述反硝化培养基为:0.5g/L NH4Cl 0.1g/L MgSO4,2.44g/L KH2PO4,4.65g/LNa2HPO4,2.16g/L KNO3,10mg/L六价铬离子溶液,微量元素1mL,微量元素构成:2.50g/LFeSO4·7H2O、7.30g/LNa2-EDTA、0.242g/LNa2MoO4·2H2O、0.02 g/LMnCl2·4H2O、0.34g/LZnCl2、0.02g/L CaCl2和0.135g/LCuCl2·2H2O;加入4.85mL/L乳酸钠。

3.如权利要求1所述的通过脱氮副球菌和希瓦氏菌共培养促进六价铬去除的方法,其特征在于,所述脱氮副球菌和希瓦氏菌的接种比为1:(1~5)。

4.如权利要求1所述的通过脱氮副球菌和希瓦氏菌共培养促进六价铬去除的方法,其特征在于,用所述NaOH和HCl调节体系的pH为7.0~8.0。

5.如权利要求1~4任意一项所述的通过脱氮副球菌和希瓦氏菌共培养促进六价铬去除的方法,其特征在于,所述脱氮副球菌和希瓦氏菌的接种比为1:2、体系中的碳氮比为5、pH为7.4、培养的温度为30℃。

6.如权利要求1所述的通过脱氮副球菌和希瓦氏菌共培养促进六价铬去除的方法,其特征在于,所述乳酸钠是所述脱氮副球菌和希瓦氏菌的碳源。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于同济大学,未经同济大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110226714.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top