[发明专利]层状双金属氢氧化物基复合薄膜的制备方法及用途

权利要求书

1.一种层状双金属氢氧化物基复合薄膜的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

（1）层状双金属氢氧化物（LDH）的沉积：

金属基体经打磨、除油、清洗、干燥；50~100 mL去离子水中加入总量为0.1~5 g的金属M硝酸盐、金属N硝酸盐，搅拌，M和N不相同；在三电极电解槽中加入配制好的混合金属盐溶液，Ag/AgCl作为参比电极，金属基体作为工作电极，铂网作为对电极进行电沉积；电沉积后用去离子水清洗金属表面，烘干；

（2）缓蚀剂的负载：

配制缓蚀剂浓度为0.01~1 M的溶液，用NaOH或KOH调节pH至9~14，搅拌均匀备用；将步骤（1）中沉积得到的样品浸泡在缓蚀剂的溶液中，处理后用去离子水清洗样品表面，烘干；

（3）复合薄膜的制备：配制浓度为0.01~1 M的电沉积溶液，在三电极电解槽中加入配制好的电沉积溶液，Ag/AgCl作为参比电极，步骤（2）处理的样品作为工作电极，铂网作为对电极进行电沉积，电沉积后用去离子水清洗金属表面，烘干；

步骤（1）中所述的金属M、N的组合包括：CoFe、NiAl、ZnFe、NiFe、MgFe或ZnCr，所用的金属基体为铁、铜、镍及上述金属的合金，所述的电沉积为阴极电沉积，沉积电位为-0.7~-1.9V，沉积时间为1~5 min，沉积的温度为20~60 ℃。

2. 根据权利要求1所述的方法，其特征在于，步骤（2）所用的缓蚀剂为钨酸盐、钼酸盐、硅酸盐、磷酸盐、偏钒酸盐、铬酸盐中的一种或多种，处理时间为0.5~48 h，处理温度为20~140 ℃。

3. 根据权利要求1所述的方法，其特征在于，步骤（3）中所用电沉积溶液组分包含Zn²⁺、Ti⁴⁺、Sn⁴⁺的硝酸盐或氯盐中的一种或多种，电沉积为阴极电沉积，沉积电位为-0.5~-1.5V，沉积时间为1~5 min，沉积的温度为0~80 ℃，电沉积所得薄膜组分为ZnO、TiO₂或SnO₂。

4.一种根据权利要求1所述的方法得到的具有层状双金属氢氧化物基复合薄膜的金属基体。

5.一种根据权利要求1所述的方法的用途，其特征在于，用于金属基体的腐蚀防护，在金属基体表层制备具有缓蚀功能的LDH薄膜和光生阴极保护功能的半导体薄膜的复合薄膜。