[发明专利]一种离子推力器放电室镀膜蓄留结构有效
申请号: | 202110186419.0 | 申请日: | 2021-02-09 |
公开(公告)号: | CN112795879B | 公开(公告)日: | 2022-07-12 |
发明(设计)人: | 孟伟;赵以德;耿海;李娟;高俊;唐福俊;江豪成;吴辰宸;代鹏;李建鹏;颜能文 | 申请(专利权)人: | 兰州空间技术物理研究所 |
主分类号: | C23C14/34 | 分类号: | C23C14/34;F03H1/00;B33Y80/00;C23C14/02;C23C14/14 |
代理公司: | 北京之于行知识产权代理有限公司 11767 | 代理人: | 吕晓蓉 |
地址: | 730013 甘*** | 国省代码: | 甘肃;62 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 离子 推力 放电 镀膜 结构 | ||
1.一种离子推力器放电室镀膜蓄留结构,其特征在于,对放电室表面进行纹理化处理,形成纹理化蓄留层,所述纹理化蓄留层设置在放电室阳极筒本体的内表面以及放电室屏栅筒本体的内表面;所述纹理化蓄留层为正六边形纹理结构,正六边形块位置为凸起结构,其余位置为凹槽结构;所述正六边形外接圆的直径为Φ0.3mm~0.5mm,所述凸起结构的高度为0.2-0.4mm;所述正六边形的间距为0.3-0.5mm。
2.如权利要求1所述的离子推力器放电室镀膜蓄留结构,其特征在于,所述纹理化蓄留层、所述阳极筒本体以及所述屏栅筒本体的材料相同,均为TC4材料。
3.如权利要求2所述的离子推力器放电室镀膜蓄留结构,其特征在于,所述纹理化蓄留层采用3D打印工艺,分别与所述阳极筒本体的内表面以及所述屏栅筒本体的内表面一体成型。
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