[发明专利]磁场增强装置在审
申请号: | 202110183923.5 | 申请日: | 2021-02-10 |
公开(公告)号: | CN114910843A | 公开(公告)日: | 2022-08-16 |
发明(设计)人: | 赵乾;池中海;郑卓肇;孟永钢;周济 | 申请(专利权)人: | 清华大学;北京清华长庚医院 |
主分类号: | G01R33/34 | 分类号: | G01R33/34;G01R33/38 |
代理公司: | 北京华进京联知识产权代理有限公司 11606 | 代理人: | 魏朋 |
地址: | 10008*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 磁场 增强 装置 | ||
1.一种磁场增强装置,其特征在于,包括:
多个磁场增强组件(10),每个所述磁场增强组件(10)包括:
第一电介质层(100),具有相对设置的第一端(103)与第二端(104),所述第一电介质层(100)还具有一个第一表面(101),由所述第一端(103)到所述第二端(104)延伸,所述第一表面(101)包括第一电容区(11)、传导区(13)和第二电容区(12),所述传导区(13)位于所述第一电容区(11)和所述第二电容区(12)之间,所述第一电容区(11)靠近所述第一端(103),所述第二电容区(12)靠近所述第二端(104);
第一电极层(110),设置于所述第一表面(101),由所述第一端(103)延伸至所述第二端(104);
第二电极层(120),设置于所述第一表面(101),并位于所述第一电容区(11),所述第二电极层(120)与所述第一电极层(110)位于所述第一电容区(11)的部分间隔设置;
第三电极层(130),设置于所述第一表面(101),并位于所述第二电容区(12),所述第三电极层(130)与所述第一电极层(110)位于所述第二电容区(12)的部分间隔设置;
每个所述磁场增强组件(10)由所述第一端(103)至所述第二端(104)延伸,所述多个磁场增强组件(10)间隔设置,并包围形成一个磁场增强空间(105);
多个第一谐振电容(911),靠近所述第一端(103)设置,一个所述第一谐振电容(911)与一个所述磁场增强组件(10)对应设置,每个所述第一谐振电容(911)的一端与所述第二电极层(120)电连接,每个所述第一谐振电容(911)的另一端与所述第一电极层(110)位于所述第一电容区(11)的部分电连接,相邻两个所述磁场增强组件(10)的所述第二电极层(120)与所述第一电极层(110)位于所述第一电容区(11)的部分连接;
多个第二谐振电容(921),靠近所述第二端(104)设置,一个所述第二谐振电容(921)与一个所述磁场增强组件(10)对应设置,每个所述第二谐振电容(921)的一端与所述第三电极层(130)电连接,每个所述第二谐振电容(921)的另一端与所述第一电极层(110)位于所述第二电容区(12)的部分电连接,相邻两个所述磁场增强组件(10)的所述第三电极层(130)与所述第一电极层(110)位于所述第二电容区(12)的部分连接。
2.如权利要求1所述的磁场增强装置,其特征在于,在所述第一电容区(11)中,所述第一谐振电容(911)设置于所述第一表面(101);
在所述第二电容区(12)中,所述第二谐振电容(921)设置于所述第一表面(101)。
3.如权利要求1所述的磁场增强装置,其特征在于,还包括:
多个第一导电结构(519),靠近所述第一端(103)设置,且每个所述第一导电结构(519)设置于相邻两个所述磁场增强组件(10)之间;
每个所述第一导电结构(519)的两端分别与相邻两个所述磁场增强组件(10)的所述第二电极层(120)和所述第一电极层(110)位于所述第一电容区(11)的部分连接;
多个第二导电结构(529),靠近所述第二端(104)设置,且每个所述第二导电结构(529)设置于相邻两个所述磁场增强组件(10)之间;
每个所述第二导电结构(529)的两端分别与相邻两个所述磁场增强组件(10)的所述第三电极层(130)和所述第一电极层(110)位于所述第二电容区(12)的部分连接。
4.如权利要求1所述的磁场增强装置,其特征在于,还包括:
第五二极管(461),所述第五二极管(461)的阳极与所述第二电极层(120)电连接;
第六二极管(462),所述第六二极管(462)的阴极与所述第二电极层(120)电连接;以及
第五外接电容(445),所述第五外接电容(445)的一端与位于所述第一电容区(11)的所述第一电极层(110)电连接,所述第五外接电容(445)的另一端分别与所述第五二极管(461)的阴极和所述第六二极管(462)的阳极电连接。
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