[发明专利]谐振器和谐振器的制造方法有效
申请号: | 202110181106.6 | 申请日: | 2021-02-09 |
公开(公告)号: | CN112953441B | 公开(公告)日: | 2023-10-24 |
发明(设计)人: | 李红浪;许欣;柯亚兵 | 申请(专利权)人: | 广东广纳芯科技有限公司 |
主分类号: | H03H9/15 | 分类号: | H03H9/15;H03H3/02 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 邓晔 |
地址: | 510700 广东省广州*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 谐振器 制造 方法 | ||
1.一种谐振器,其特征在于,包括:
衬底;
压电层,该压电层形成在所述衬底上;
电极,该电极形成在所述压电层上;
氧化层,该氧化层形成在所述电极上并且覆盖所述电极;以及
频率调整层,该频率调整层形成在氧化层上。
2.如权利要求1所述的谐振器,其特征在于,所述频率调整层由SiN形成。
3.如权利要求1所述的谐振器,其特征在于,所述压电层由PMNT材料形成。
4.如权利要求3所述的谐振器,其特征在于,所述PMNT材料是单晶材料,并且所述PMNT材料的极化方向是[001]方向。
5.如权利要求4所述的谐振器,其特征在于,所述PMNT材料是0.67Pb(Mg1/3Nb2/3)O3-0.33PbTiO3。
6.如权利要求1所述的谐振器,其特征在于,所述电极由Ti、Al、Cu、Cr、Au、Pt、Ag、Pd、Ni或它们的合金、或者这些金属或合金的层叠体形成。
7.如权利要求1所述的谐振器,其特征在于,所述衬底由SiC、蓝宝石、金刚石和Si中的一种或多种形成。
8.如权利要求1所述的谐振器,其特征在于,所述氧化层由SiO2、SiFO和SiOC中的一种或多种形成。
9.一种制造谐振器的制造方法,其特征在于,包括:
将由PMNT材料形成的压电层与衬底层进行键合;
在键合完成之后,对所述压电层和所述衬底层进行冷却;
在所述压电层上沉积电极;
在所述电极上沉积氧化层;以及
在所述氧化层上沉积频率调整层。
10.如权利要求9所述的制造方法,其特征在于,所述压电层由PMNT材料形成。
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