[发明专利]保持磁流变抛光液抛光效率的方法、稳定剂及其制备方法

权利要求书

1.一种磁流变抛光用性能稳定剂，其特征在于，由磨粒、润湿剂、分散剂、抗氧化剂和水组成，各组分的质量百分比为：

磨粒：12％-30％

润湿剂：0.5％-5％

分散剂：0.05％-5％

抗氧化剂：0.2％-3％

水：余量。

2.根据权利要求1所述的一种磁流变抛光用性能稳定剂，其特征在于，所述磨粒为二氧化铈、金刚石微粉、氧化铝、碳化硅或二氧化硅中的一种或多种。

3.根据权利要求1或2所述的一种磁流变抛光用性能稳定剂，其特征在于，所述磨粒的粒径10-1000nm。

4.根据权利要求1或2所述的一种磁流变抛光用性能稳定剂，其特征在于，所述的润湿剂为丙二醇、聚氧乙烯或聚乙二醇中的一种，质量百分比为0.5％-5％。

5.根据权利要求1或2所述的一种磁流变抛光用性能稳定剂，其特征在于，所述分散剂为六偏磷酸钠、聚乙烯醇、聚丙烯酰胺中的一种，质量百分比为0.05％-5％。

6.根据权利要求1或2所述的一种磁流变抛光用性能稳定剂，其特征在于，所述的抗氧化剂为碳酸钠或亚硝酸钠中的一种，质量百分比为0.2％-3％。

7.根据权利要求1或2所述的一种磁流变抛光用性能稳定剂，其特征在于，各组分的质量百分比为：

磨粒：12％-13％

润湿剂：2.4％-2.5％

分散剂：1.6％-1.7％

抗氧化剂：1.3％-1.4％

水：余量

所述磨粒为氧化铈，所述润湿剂为丙二醇，所述分散剂为聚乙烯醇，所述抗氧化剂为碳酸钠。

8.一种磁流变抛光用性能稳定剂的制备方法，其特征在于，制备如权利要求1-7任一项所述的稳定剂，包括如下步骤：向水中先后加入分散剂、润湿剂和抗氧化剂并分别混合溶解形成基载液，再向所述基载液中加入磨粒混合均匀得到所述稳定剂。

9.一种保持磁流变抛光液抛光效率的方法，其特征在于，将权利要求1-7任一项所述的稳定剂加入到磁流变抛光液体系中，对元件进行抛光。

10.根据权利要求9所述的保持磁流变抛光液抛光效率的方法，其特征在于，将所述稳定剂保持均匀分散，再通过蠕动泵将所述稳定剂加入到磁流变抛光液体系中。