[发明专利]光学装置、物品制造方法以及光学部件制造方法在审
申请号: | 202110147111.5 | 申请日: | 2021-02-03 |
公开(公告)号: | CN113311667A | 公开(公告)日: | 2021-08-27 |
发明(设计)人: | 川岛春名 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G02B1/18;G02B1/115 |
代理公司: | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人: | 程晨 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 光学 装置 物品 制造 方法 以及 部件 | ||
1.一种光学装置,其特征在于,具备:
光源,射出具有连续的波长域的光;以及
至少1个光学元件,设置有包含光触媒膜的光学膜,
从所述光源射出的光经由所述至少1个光学元件入射到被照射面,其中,
从所述光源射出并经由所述至少1个光学元件入射到所述被照射面的光的波长域的下限波长由所述光触媒膜的光吸收特性决定。
2.根据权利要求1所述的光学装置,其特征在于,
从所述光源射出的光经由多个空间入射到所述被照射面,所述至少1个光学元件包括在所述多个空间中的相互相邻的空间的边界处配置的光学元件。
3.根据权利要求2所述的光学装置,其特征在于,
在所述多个空间的至少1个空间中,配置有未设置对入射到所述被照射面的所述光的所述下限波长造成影响的光触媒膜的光学元件。
4.根据权利要求2所述的光学装置,其特征在于,
在所述多个空间的各个中,配置有未设置对入射到所述被照射面的所述光的所述下限波长造成影响的光触媒膜的光学元件。
5.根据权利要求1所述的光学装置,其特征在于,
从所述光源射出的光经由相互相邻的第1空间以及第2空间入射到所述被照射面,
所述第2空间具有比所述第1空间多的污染物质,
所述至少1个光学元件包括以使包含所述光触媒膜的光学膜面对所述第2空间的方式配置的光学元件。
6.根据权利要求5所述的光学装置,其特征在于,
在所述光学元件的2个面中的所述第1空间侧的面,未设置对入射到所述被照射面的所述光的所述下限波长造成影响的光触媒膜。
7.根据权利要求1至6中的任意一项所述的光学装置,其特征在于,
所述光触媒膜包含Ta2O5膜。
8.根据权利要求1至6中的任意一项所述的光学装置,其特征在于,
所述光触媒膜包含HfOx膜,其中x2。
9.根据权利要求1至6中的任意一项所述的光学装置,其特征在于,
所述光触媒膜包含Ta2O5以及HfOx的混合膜,其中x2。
10.根据权利要求1至6中的任意一项所述的光学装置,其特征在于,
所述光触媒膜包含NbO5膜、ZrO2膜、ZnO膜以及Al2Ox中的至少1个膜,其中x3。
11.根据权利要求1至6中的任意一项所述的光学装置,其特征在于,
所述光学膜具有覆盖所述光触媒膜的表面膜,所述表面膜包含SiO2膜。
12.根据权利要求1至6中的任意一项所述的光学装置,其特征在于,
所述光学膜具有覆盖所述光触媒膜的表面膜,所述表面膜包含有机氟化合物膜。
13.根据权利要求12所述的光学装置,其特征在于,
所述光学膜具有覆盖所述光触媒膜的表面膜,所述表面膜包含全氟烷基化合物膜或者全氟醚化合物膜。
14.根据权利要求1至6中的任意一项所述的光学装置,其特征在于,
所述光学膜是反射防止膜,所述至少1个光学元件是光透射型光学元件。
15.根据权利要求1至6中的任意一项所述的光学装置,其特征在于,
所述光学装置构成为对配置于所述被照射面的基板进行曝光的曝光装置。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于佳能株式会社,未经佳能株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110147111.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:显示装置
- 下一篇:输送装置和制造物品的方法